[發明專利]化學增幅正型抗蝕劑膜層疊體和圖案形成方法有效
| 申請號： | 201711186205.3 | 申請日： | 2017-11-24 |
| 公開（公告）號： | CN108107676B | 公開（公告）日： | 2023-02-21 |
| 發明（設計）人： | 平野禎典;淺井聰;近藤和紀 | 申請（專利權）人： | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/004 | 分類號： | G03F7/004;G03F7/016;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人： | 李英 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 增幅 正型抗蝕劑膜 層疊 圖案 形成 方法 | ||
【權利要求書】：
1.化學增幅正型抗蝕劑膜層疊體，包括熱塑性膜和其上的化學增幅正型抗蝕劑膜，
所述化學增幅正型抗蝕劑膜包含：(A)基礎樹脂，其包含在側鏈上具有羥基苯基和保護基團的聚合物，所述聚合物由于在酸的作用下保護基團被除去而變為堿可溶，(B)光致產酸劑，(C)3-30重量％的有機溶劑，和(D)在其主鏈中具有酯鍵的聚合物，
所述抗蝕劑膜能夠被轉印至另一支承體，
其中組分(D)為多官能羧酸與多元醇的縮合反應產物，
相對于100重量份的組分(A)，組分(D)的量為10-100重量份，并且聚合物(D)具有700-50000的Mw，
聚合物(A)包含來自于羥基苯乙烯或其衍生物的重復單元，其中酚羥基的一些氫原子被酸不穩定基團取代。
2.權利要求1所述的層疊體，其中所述多官能羧酸為脂族羧酸。
3.權利要求1所述的層疊體，其中所述抗蝕劑膜具有5-250μm的厚度。
4.圖案形成方法，包括下述步驟：
(1)將權利要求1所述的層疊體的化學增幅正型抗蝕劑膜轉印至另一支承體，
(2)使所述抗蝕劑膜曝光于波長230-500nm的放射線，和
(3)使所述抗蝕劑膜在堿性水溶液中顯影。
5.權利要求4所述的方法，還包括步驟(4)：在步驟(3)之后通過電鍍或化學鍍在所述支承體上形成金屬鍍層。
6.權利要求5所述的方法，還包括步驟(1’)：在步驟(1)和(2)之間對所述抗蝕劑膜進行預烘焙。
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