[發明專利]帶廢氣凈化功能的工業廢水處理裝置

在審

• 申請號: 201711174278.0
• 申請日: 2017-11-22
• 公開（公告）號: CN107915373A
• 公開（公告）日: 2018-04-17
• 發明（設計）人: 丁藝敏
• 申請（專利權）人: 鄭州艾莫弗信息技術有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14;B01D53/75;B01D53/84;B01D53/86
• 代理公司: 北京華仲龍騰專利代理事務所(普通合伙)11548
• 代理人: 姜慶梅

技術領域

本發明涉及一種環保設施，具體是一種帶廢氣凈化功能的工業廢水處理裝置。

背景技術

在化工生產領域中，各道生產工序都會產生大量的廢水，對這些廢水如果直接進行排放，不僅造成了水資源的浪費，也會引起環境污染；現有對污水的處理方面采用沉淀池等污水處理裝置，還有一些是直接排放，直接排放的方法不僅污染了大自然，而且造成了資源的浪費；現有技術中，也出現了不少化工污水處理設備，但是這些設備往往除污不徹底、除污成本高、效率低；同時，很多企業自身沒有廢氣處理設施，或者廢氣處理設施不宜處理高濃度廢氣；對于大量處理廢水處理設施的非化工企業，新增廢氣的處理問題非常突出。

發明內容

針對上述現有技術的不足，本發明要解決的技術問題是提供一種除污徹底且效率高的帶廢氣凈化功能的工業廢水處理裝置。

為解決上述技術問題，本發明提供了如下技術方案：

一種帶廢氣凈化功能的工業廢水處理裝置，包括廢水處理裝置和廢氣凈化裝置；所述廢水處理裝置包括進水管、進水閥、過濾格柵、水泵、排水管、過濾箱、消毒箱、消毒液盒、第一電機、攪拌片、排污口、集雜箱、連接管道、卸料閥和處理箱；所述進水管設置在處理箱的左側，進水管的上面設置有進水閥；所述過濾格柵設置在處理箱的內腔右側；所述水泵固定設置在處理箱的右端，水泵的右端通過排水管和過濾箱相連接，排水管延伸設置到過濾箱的內腔底部，過濾箱設置在處理箱的右側，過濾箱的右側下端設置有排污口；所述消毒箱的左側通過排水管和過濾箱的右側上端相連接；所述消毒液盒設置在消毒箱的上面；所述第一電機固定設置在消毒箱的下端，第一電機的上面設置有攪拌片；所述廢水處理裝置包括廢氣凈化箱、出氣格柵、生物反應層、光催化燈管、排氣管、吸風機、箱蓋和活性炭層；所述箱蓋設置在處理箱的上端，箱蓋的內部上端設置有活性炭層；所述吸風機的右端通過排氣管和箱蓋和過濾箱相連通，吸風機的左端通過排氣管和廢氣凈化箱的上端相連接；所述生物反應層設置在廢氣凈化箱的內腔下側；所述出氣格柵設置在廢氣凈化箱的左側下端；所述第二電機的外側設置有防水罩，第二電機的下端設置有刮片，刮片緊貼處理箱設置；所述過濾箱的內腔由下到上依次設置有超細濾網、石墨層、生物膜、海綿層和活性炭吸附層。

作為本發明進一步的改進方案：所述集雜箱通過連接管道設置在處理箱的下面，連接管道的上面設置有卸料閥。

作為本發明進一步的改進方案：所述水泵的左端通過排水管延伸設置到過濾格柵內。

作為本發明進一步的改進方案：所述消毒箱設置在過濾箱的右側。

作為本發明更進一步的改進方案：所述生物反應層的上面設置有光催化燈管。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：

本發明裝置通過將集雜箱通過連接管道設置在處理箱的下面，具有對廢水中的雜質污泥進行收集的功能；將水泵的左端通過排水管延伸設置到過濾格柵內，具有初步對廢水進行固液分離的功能；將消毒箱設置在過濾箱的右側，具有對過濾后的廢水進行消毒處理的功能；在箱蓋的內部上端設置有活性炭層，具有對廢氣吸附過濾的功能；在生物反應層的上面設置有光催化燈管，具有加快生物反應快速對廢氣進行凈化的功能；本裝置具有結構簡單、實用性強和廢水廢氣凈化效果好的特點。

附圖說明

圖1為帶廢氣凈化功能的工業廢水處理裝置的結構示意圖；

圖2為帶廢氣凈化功能的工業廢水處理裝置中處理箱的結構示意圖；

圖3為帶廢氣凈化功能的工業廢水處理裝置中過濾箱的結構示意圖；

圖中：1-廢氣凈化箱、2-出氣格柵、3-生物反應層、4-光催化燈管、5-排氣管、6-吸風機、7-進水管、8-進水閥、9-箱蓋、10-活性炭層、11-過濾格柵、12-水泵、13-排水管、14-過濾箱、15-消毒箱、16-消毒液盒、17-第一電機、18-攪拌片、19-排污口、20-集雜箱、21-連接管道、22-卸料閥、23-處理箱、24-防水罩、25-第二電機、26-刮片、27-活性炭吸附層、28-海綿層、29-生物膜、30-石墨層、31-超細濾網。

具體實施方式

下面結合具體實施方式對本專利的技術方案作進一步詳細地說明。

下面詳細描述本專利的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本專利，而不能理解為對本專利的限制。