[發明專利]聚苯胺納米線陣列/石墨烯片/二氧化錫復合材料的制備方法在審
| 申請號： | 201711159749.0 | 申請日： | 2017-11-20 |
| 公開（公告）號： | CN108010730A | 公開（公告）日： | 2018-05-08 |
| 發明（設計）人： | 樊新;謝一博;龐樹花;陳韋良;黃烈可;方東 | 申請（專利權）人： | 桂林理工大學 |
| 主分類號： | H01G11/24 | 分類號： | H01G11/24;H01G11/30;H01G11/36;H01G11/46;H01G11/48;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 541004 廣西壯*** | 國省代碼： | 廣西;45 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 苯胺 納米 陣列 石墨 氧化 復合材料 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種聚苯胺納米線陣列/石墨烯片/二氧化錫復合材料的制備方法，其特征在于具體步驟為：
（1）將三維氧化石墨烯溶解于去離子水中，超聲10 min制得三維氧化石墨烯溶液，即為水相；
（2）將提純后的苯胺溶解在氯仿中制得油相，與步驟（1）制得的水相混合，采用界面聚合法，在0~5 ℃下反應24 h，油水界面出現墨綠色的產物，經過濾、洗滌后，60 ℃下干燥12h，即制得聚苯胺納米線/氧化石墨烯復合材料；
（3）取步驟（2）制得的聚苯胺納米線/氧化石墨烯復合材料溶解在去離子水中，在充分攪拌下加入SnCl
（4）向步驟（3）制得的混合溶液中加入NaOH溶液，超聲處理5 min后，180 ℃下反應2 h，自然冷卻至室溫后，所得產物用去離子水洗滌至中性后進行干燥，即制得聚苯胺納米線陣列/石墨烯片/二氧化錫復合材料；
所述提純后的苯胺與三維氧化石墨烯的質量比為0.1~4:1；所述SnCl
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于桂林理工大學，未經桂林理工大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711159749.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
