[發(fā)明專利]一種用于全液相操作固定床反應(yīng)器的進(jìn)料分布器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711156912.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107899517B | 公開(公告)日: | 2019-12-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉鵬;喬小飛;朱發(fā)明;張晨;陳雁玲;林少寧;于天勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 萬華化學(xué)集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01J8/02 | 分類號(hào): | B01J8/02 |
| 代理公司: | 11728 北京信諾創(chuàng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 陳悅軍 |
| 地址: | 264002 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 全液相 操作 固定床反應(yīng)器 進(jìn)料 分布 | ||
本發(fā)明涉及一種用于全液相操作固定床反應(yīng)器中的進(jìn)料分布器,包括分布器筒體,所述筒體由上至下包括進(jìn)料區(qū)、混合區(qū)和分布區(qū),其中,所述進(jìn)料區(qū)的頂部為物料入口,所述進(jìn)料區(qū)與混合區(qū)之間依次通過縮徑結(jié)構(gòu)和喉管連通,所述混合區(qū)上部的側(cè)壁上設(shè)有多個(gè)抽吸通道,所述分布區(qū)的底部設(shè)有盲板、側(cè)壁設(shè)有多個(gè)周向分布的分布槽8,所述分布槽的外側(cè)還設(shè)有環(huán)形導(dǎo)流板,所述導(dǎo)流板與分布槽底端平齊設(shè)置。本發(fā)明可消除反應(yīng)器頂部錐角區(qū)域容易形成的死區(qū),使反應(yīng)器性能更接近于平推流反應(yīng)器,在使用時(shí)具有液體分布均勻、結(jié)構(gòu)簡單、制作安裝方便等優(yōu)點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于化工領(lǐng)域,涉及一種進(jìn)料分布器,更具體地說,涉及一種用于全液相條件下操作的固定床反應(yīng)器中的進(jìn)料分布器。
背景技術(shù)
液體分布器廣泛應(yīng)用于各類化工設(shè)備中,其主要作用是把液態(tài)的物料均勻分散于設(shè)備空間中,以滿足傳質(zhì)、傳熱或化學(xué)反應(yīng)的要求。常用的傳統(tǒng)液體分布器主要有排管式液體分布器、孔盤式液體分布器、槽盤式液體分布器等。
對(duì)全液相操作的固定床反應(yīng)器而言,液體通過床層的阻力通常有助于獲得較好的流體分布效果,液體分布器的主要作用則是降低入口動(dòng)能對(duì)液體分布的影響,同時(shí)消除反應(yīng)器頂部空間,尤其是靠近器壁區(qū)域的死區(qū)。但傳統(tǒng)分布器多采用平頂分布結(jié)構(gòu),一般難以安裝在設(shè)備封頭區(qū)域,由此導(dǎo)致設(shè)備封頭區(qū)域或分布器以上部分,尤其是靠近器壁的區(qū)域容易形成死區(qū)(被分布流體很難噴射到該區(qū)域,區(qū)域內(nèi)流體流動(dòng)困難)。這一現(xiàn)象在物料本身容易發(fā)生自分解或聚合等較強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)器中可能導(dǎo)致產(chǎn)品不合格,甚至發(fā)生危險(xiǎn)。因此,開發(fā)可消除設(shè)備頂部或錐角區(qū)域死區(qū)的進(jìn)料分布器具有重要意義。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種用于全液相操作的固定床反應(yīng)器中的進(jìn)料分布器,克服現(xiàn)有分布器容易在分布器上部形成死區(qū)的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種用于全液相操作固定床反應(yīng)器的進(jìn)料分布器,該分布器包括分布器筒體,所述筒體由上至下包括進(jìn)料區(qū)、混合區(qū)和分布區(qū),其中,所述進(jìn)料區(qū)的頂部為物料入口,所述進(jìn)料區(qū)與混合區(qū)之間依次通過縮徑結(jié)構(gòu)和喉管連通,所述混合區(qū)上部的側(cè)壁上設(shè)有多個(gè)抽吸通道,所述分布區(qū)的底部設(shè)有盲板、側(cè)壁設(shè)有多個(gè)周向分布的分布槽,所述分布槽的外側(cè)還設(shè)有環(huán)形導(dǎo)流板,所述導(dǎo)流板與分布槽底端平齊設(shè)置。
根據(jù)本發(fā)明的分布器,優(yōu)選地,所述喉管直徑為所述物料入口直徑的20%-60%,優(yōu)選35%-50%。
根據(jù)本發(fā)明的分布器,優(yōu)選地,所述喉管的下端伸入所述混合區(qū),從而在所述喉管的下端與所述混合區(qū)的側(cè)壁之間形成環(huán)形區(qū),所述的多個(gè)抽吸通道沿周向設(shè)置在所述環(huán)形區(qū)的側(cè)壁上;
優(yōu)選地,所述的多個(gè)抽吸通道呈弧形。
根據(jù)本發(fā)明的分布器,優(yōu)選地,所述抽吸通道的總流通截面積與所述物料入口截面積之比為0.1-0.8,優(yōu)選0.1-0.3;
優(yōu)選地,所述抽吸通道設(shè)有4-12個(gè)。
根據(jù)本發(fā)明的分布器,優(yōu)選地,所述分布槽的總通道面積與所述物料進(jìn)口的截面積的比值為0.5-3,優(yōu)選1.5-2。
根據(jù)本發(fā)明的分布器,優(yōu)選地,所述分布區(qū)的分布槽設(shè)有至少兩層,每層分布槽的外側(cè)均設(shè)有環(huán)形導(dǎo)流板,所述導(dǎo)流板與對(duì)應(yīng)分布槽的底端平齊設(shè)置。
根據(jù)本發(fā)明的分布器,優(yōu)選地,在相鄰的兩層分布槽中上層分布槽流通截面積與下層分布槽流通截面積的比值為1-3,優(yōu)選1.2-2。
根據(jù)本發(fā)明的分布器,優(yōu)選地,所述分布槽為圓形、矩形或三角形。
本發(fā)明通過對(duì)反應(yīng)器頂部流體的抽吸作用以及配合下部物料的排擠作用,強(qiáng)制反應(yīng)器邊緣錐角區(qū)域頂部流體進(jìn)行流動(dòng),消除反應(yīng)器頂部錐角區(qū)域的死區(qū),使反應(yīng)器性能更接近于平推流反應(yīng)器,在使用時(shí)具有液體分布均勻、結(jié)構(gòu)簡單、制作安裝方便等優(yōu)點(diǎn)。
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