[發(fā)明專利]一種用于全液相操作固定床反應(yīng)器的進(jìn)料分布器

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711156912.8
• 申請(qǐng)日: 2017-11-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107899517B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-12-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉鵬;喬小飛;朱發(fā)明;張晨;陳雁玲;林少寧;于天勇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 萬(wàn)華化學(xué)集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): B01J8/02
• 分類號(hào): B01J8/02
• 代理公司: 11728 北京信諾創(chuàng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 陳悅軍

1.一種進(jìn)料分布器，其特征在于：該分布器包括分布器筒體，所述筒體由上至下包括進(jìn)料區(qū)、混合區(qū)和分布區(qū)，其中，所述進(jìn)料區(qū)的頂部為物料入口，所述進(jìn)料區(qū)與混合區(qū)之間依次通過(guò)縮徑結(jié)構(gòu)和喉管連通，所述混合區(qū)上部的側(cè)壁上設(shè)有多個(gè)抽吸通道，所述分布區(qū)的底部設(shè)有盲板、側(cè)壁設(shè)有多個(gè)周向分布的分布槽，所述分布槽的外側(cè)還設(shè)有環(huán)形導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板與分布槽底端平齊設(shè)置；

其中，所述喉管的下端伸入所述混合區(qū)，從而在所述喉管的下端與所述混合區(qū)的側(cè)壁之間形成環(huán)形區(qū)，所述的多個(gè)抽吸通道沿周向設(shè)置在所述環(huán)形區(qū)的側(cè)壁上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述分布器，其特征在于：所述喉管直徑為所述物料入口直徑的20％-60％。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述分布器，其特征在于：所述喉管直徑為所述物料入口直徑的35％-50％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述分布器，其特征在于：所述的多個(gè)抽吸通道呈弧形。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述分布器，其特征在于：所述抽吸通道的總流通截面積與所述物料入口截面積之比為0.1-0.8。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述分布器，其特征在于：所述抽吸通道的總流通截面積與所述物料入口截面積之比為0.1-0.3。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述分布器，其特征在于：所述抽吸通道設(shè)有4-12個(gè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述分布器，其特征在于：所述分布槽的總通道面積與所述物料進(jìn)口的截面積的比值為0.5-3。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述分布器，其特征在于：所述分布槽的總通道面積與所述物料進(jìn)口的截面積的比值為1.5-2。

10.根據(jù)權(quán)利要求1、8或9所述分布器，其特征在于：所述分布區(qū)的分布槽設(shè)有至少兩層，每層分布槽的外側(cè)均設(shè)有環(huán)形導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板與對(duì)應(yīng)分布槽的底端平齊設(shè)置。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述分布器，其特征在于：在相鄰的兩層分布槽中上層分布槽流通截面積與下層分布槽流通截面積的比值為1-3。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述分布器，其特征在于：在相鄰的兩層分布槽中上層分布槽流通截面積與下層分布槽流通截面積的比值為1.2-2。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述分布器，其特征在于：所述分布槽為圓形、矩形或三角形。