[發明專利]帶低反射膜的基體及其制造方法有效
| 申請號： | 201711114544.0 | 申請日： | 2017-11-13 |
| 公開（公告）號： | CN108072926B | 公開（公告）日： | 2021-06-08 |
| 發明（設計）人： | 藤井健輔 | 申請（專利權）人： | AGC株式會社 |
| 主分類號： | G02B1/11 | 分類號： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德駿 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反射 基體 及其 制造 方法 | ||
1.一種帶低反射膜的基體，其具有透明基體、設置于所述透明基體的一個主面的第1低反射膜、以及設置于所述透明基體的側面的第2低反射膜，其特征在于，
設置于所述一個主面的第1低反射膜的光反射率Rtot為1.5％以下，且設置于所述側面的第2低反射膜的光反射率Rs為2.5％以下、色度a*為0～4、b*為3～9。
2.如權利要求1所述的帶低反射膜的基體，其中，在所述透明基體的另一個主面的一部分具有黑色印刷部。
3.如權利要求2所述的帶低反射膜的基體，其中，在所述黑色印刷部中，設置于所述一個主面的第1低反射膜的色度a*大于-6且小于6、b*大于-6且小于6。
4.如權利要求1～3中任一項所述的帶低反射膜的基體，其中，所述第1低反射膜的光反射率Rtot為1.2％以下。
5.如權利要求1～3中任一項所述的帶低反射膜的基體，其中，設置于所述側面的低反射膜的光反射率Rs為2％以下。
6.如權利要求1～3中任一項所述的帶低反射膜的基體，其中，所述光反射率Rtot與所述光反射率Rs之比(Rs/Rtot)為1～3。
7.如權利要求1～3中任一項所述的帶低反射膜的基體，其中，所述透明基體在所述一個主面和所述側面具有由防眩處理形成的凹凸形狀。
8.如權利要求1～3中任一項所述的帶低反射膜的基體，其中，所述透明基體為玻璃基板。
9.如權利要求8所述的帶低反射膜的基體，其中，所述玻璃基板為化學強化玻璃。
10.如權利要求9所述的帶低反射膜的基體，其中，所述化學強化玻璃的表面壓應力為400MPa以上且1200MPa以下。
11.如權利要求10所述的帶低反射膜的基體，其中，所述化學強化玻璃的表面壓應力層的深度為15μm～60μm。
12.一種顯示裝置，其特征在于，具有：
顯示器、以及
在該顯示器的正面作為正面基板而設置的權利要求1～11中任一項所述的帶低反射膜的基體。
13.一種帶低反射膜的基體的制造方法，其為以隔著間隔物而具有規定的間隔的方式將透明基體固定在用于固定該透明基體的承載基板上、通過物理蒸鍍法在所述透明基體的一個主面形成第1低反射膜并且同時在所述透明基體的側面形成第2低反射膜的帶低反射膜的基體的制造方法，其特征在于，
設置于所述一個主面的第1低反射膜的光反射率Rtot為1.5％以下，且設置于所述側面的第2低反射膜的光反射率Rs為2.5％以下、色度a*為0～4、b*為3～9。
14.如權利要求13所述的帶低反射膜的基體的制造方法，其中，所述物理蒸鍍法為濺射。
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