[發(fā)明專利]大氣壓輝光放電離子源在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711106175.0 | 申請(qǐng)日： | 2017-11-10 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107910237A | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-04-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 左國(guó)民;杜正;汪小知;王學(xué)峰;高適;李鵬;張榮;張立功;楊金星;郭輝 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)人民解放軍陸軍防化學(xué)院;蘇州微木智能系統(tǒng)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H01J3/04 | 分類(lèi)號(hào)： | H01J3/04 |
| 代理公司： | 北京華進(jìn)京聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11606 | 代理人： | 賈滿意 |
| 地址： | 102205 北*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 大氣壓 輝光 放電 離子源 | ||
1.一種大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，包括：
第一螺旋電極(100)，所述第一螺旋電極(100)為帶狀，且由起始端向外螺旋延伸；
第二螺旋電極(200)，所述第二螺旋電極(200)為帶狀，且由起始端向外螺旋延伸，所述第二螺旋電極(200)與所述第一螺旋電極(100)共面且平行間隔設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，所述第一螺旋電極(100)與所述第二螺旋電極(200)互補(bǔ)，并共同構(gòu)成圓形結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，所述第一螺旋電極(100)的起始端與所述第二螺旋電極(200)的起始端為互補(bǔ)的太極頭。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，第一螺旋電極(100)包括第一螺旋條狀基體(110)，和覆蓋所述第一螺旋條狀基體(110)的第一導(dǎo)電層(120)；
所述第二螺旋電極(200)包括第二螺旋條狀基體(210)，和覆蓋所述第二螺旋條狀基體(210)的第二導(dǎo)電層(220)；
所述第二螺旋條狀基體(210)與所述第一螺旋條狀基體(110)平行間隔設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，所述第一導(dǎo)電層(120)設(shè)置于所述第一螺旋條狀基體(110)與所述第二螺旋條狀基體(210)相對(duì)的側(cè)壁；
所述第二導(dǎo)電層(220)設(shè)置于所述第二螺旋條狀基體(210)與所述第一螺旋條狀基體(110)相對(duì)的側(cè)壁。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，還包括：
第一支撐架(130)，所述第一支撐架(130)與所述第一螺旋電極(100)的螺旋外圍端固定連接；
第二支撐架(230)，所述第二支撐架(230)與所述第二螺旋電極(200)的螺旋外圍端固定連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，所述第一螺旋電極(100)與所述第二螺旋電極(200)之間形成有螺旋放電溝道(300)，所述螺旋放電溝道(300)的延伸方向與所述第一螺旋電極(100)和所述第二螺旋電極(200)的延伸方向相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，所述螺旋放電溝道(300)的寬度為10微米-100微米。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，所述螺旋放電溝道(300)的縱寬比大于10:1。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，所述第一螺旋電極(100)和所述第二螺旋電極(200)相對(duì)的表面設(shè)置有多個(gè)第一凸點(diǎn)(130)；
所述第二螺旋電極(200)和所述第一螺旋電極(100)的表面設(shè)置有多個(gè)第二凸點(diǎn)(230)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的大氣壓輝光放電離子源，其特征在于，進(jìn)一步包括電源(400)，所述電源(400)分別與所述第二螺旋電極(200)和所述第一螺旋電極(100)電連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)人民解放軍陸軍防化學(xué)院;蘇州微木智能系統(tǒng)有限公司，未經(jīng)中國(guó)人民解放軍陸軍防化學(xué)院;蘇州微木智能系統(tǒng)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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