[發明專利]等離子體發生模塊及包含該模塊的等離子體處理裝置

在審

• 申請號: 201711097790.X
• 申請日: 2017-11-09
• 公開（公告）號: CN108064112A
• 公開（公告）日: 2018-05-22
• 發明（設計）人: 韓垈昊;樸宇鐘;崔正秀
• 申請（專利權）人: INVENIA有限公司
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 姜虎;陳英俊

1.一種等離子體發生模塊，其特征在于，包含：

供給高頻電力的高頻電源；

以所述高頻電力為基礎向工序空間產生等離子體的天線；及

被配置在所述工序空間和所述天線之間的非磁性體，

所述天線和所述非磁性體的間隔根據區域而不同，其中，所述區域根據可以使在所述工序空間產生的所述等離子體的密度均勻而設定。

2.根據權利要求1所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述天線包含被配置在所述非磁性體的中央區域上部的第一天線及被配置在所述非磁性體的邊緣區域上部的第二天線。

3.根據權利要求2所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述第一及第二天線被配置在同樣的高度上，

所述非磁性體，其被配置在所述第一天線下側的中央區域的厚度比被配置在所述第二天線下側的邊緣區域的厚度厚。

4.根據權利要求3所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

還包含區劃所述非磁性體，以使所述非磁性體分離為配置在中央區域的第一窗及配置在邊緣區域的第二窗的框體。

5.根據權利要求4所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述第一窗的厚度比所述第二窗的厚度厚。

6.根據權利要求4所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述第二窗具有從相鄰于所述第一窗的一區域朝向另一區域的傾斜面。

7.根據權利要求4所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述框體使所述第一及第二窗相互絕緣。

8.根據權利要求4所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述框體包含氣體供給部和氣體噴出孔，其中，所述氣體供給部形成有從外部被供給的工序氣體擴散的空間，所述氣體噴出孔使所述工序氣體向所述工序空間噴出。

9.根據權利要求4所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述第一及第二窗面向所述工序空間的一面被配置為相互平行。

10.根據權利要求1所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述非磁性體由多個可相互脫離的部件構成。

11.根據權利要求10所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述非磁性體包含：

上部板；

與所述上部板的下部相隔而配置的下部板；

在所述上部板和所述下部板之間連接所述上部板和所述下部板的連接板。

12.根據權利要求11所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述非磁性體還包含被配置在所述板之間的接觸部位的密封部件。

13.根據權利要求1所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述非磁性體在其內部形成中空。

14.根據權利要求13所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述非磁性體包含氣體供給部和氣體噴出孔，其中，所述氣體供給部形成有從外部被供給的工序氣體擴散的空間，所述氣體噴出孔使所述工序氣體向所述工序空間噴出。

15.根據權利要求2所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述非磁性體包含區劃所述非磁性體，以使所述非磁性體分離為配置在中央區域的第一窗及配置在邊緣區域的第二窗的框體。

16.根據權利要求15所述的等離子體發生模塊，其特征在于，

所述第一及第二窗構成為具有同樣的厚度，

所述第一天線和所述第一窗之間的距離比所述第二天線和所述第二窗之間的距離遠。