[發(fā)明專利]掩膜板貼合裝置以及其貼合方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711080476.0 | 申請日: | 2017-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN107604309B | 公開(公告)日: | 2023-09-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 戚海平 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 北京鼎佳達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王偉鋒;劉鐵生 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掩膜板 貼合 裝置 及其 方法 | ||
1.一種掩膜板貼合裝置,其特征在于,包括:
本體,所述本體上具有壓合單元,所述壓合單元上具有出氣口,所述出氣口用于朝向掩膜板的貼合區(qū)域噴出壓合氣體,所述掩膜板包括金屬掩膜和掩膜框架,所述金屬掩膜貼合于所述掩膜框架上;
所述壓合單元包括固定出氣筒和活動出氣筒,所述固定出氣筒固定于所述本體,所述活動出氣筒套裝于所述固定出氣筒內(nèi),其中,所述活動出氣筒與所述固定出氣筒之間為活動連接,所述活動出氣筒用于沿所述固定出氣筒的軸線方向伸縮,使所述活動出氣筒端部的第一子出氣口靠近或遠(yuǎn)離掩膜板的貼合區(qū)域,所述固定出氣筒的端部具有與所述第一子出氣口出氣方向相同的環(huán)形第二子出氣口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板貼合裝置,其特征在于,
所述本體的一側(cè)具有多個所述壓合單元,多個所述壓合單元上的出氣口用于分別朝向掩膜板的貼合區(qū)域中的多個位置噴出壓合氣體。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板貼合裝置,其特征在于,
所述壓合單元活動連接于所述本體,用于使所述壓合單元的出氣口靠近或遠(yuǎn)離掩膜板的貼合區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板貼合裝置,其特征在于,還包括:
驅(qū)動部,所述驅(qū)動部的驅(qū)動端連接于所述活動出氣筒;
檢測部,所述檢測部連接于所述驅(qū)動部,所述檢測部用于檢測金屬掩膜和掩膜框架貼合區(qū)域的平坦度,并根據(jù)所述平坦度信息控制所述驅(qū)動部調(diào)節(jié)所述第一子出氣口與所述貼合區(qū)域之間的距離。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板貼合裝置,其特征在于,
多個所述出氣口的出氣方向相互平行。
6.一種掩膜板的貼合方法,利用如權(quán)利要求1至5中任一項所述的掩膜板貼合裝置,其特征在于,包括:
使金屬掩膜的第一貼合區(qū)域與掩膜框架的第二貼合區(qū)域相互貼合;
將所述掩膜板貼合裝置設(shè)置于所述金屬掩膜背離于所述掩膜框架的一側(cè),并根據(jù)所述第一貼合區(qū)域和第二貼合區(qū)域的平坦度調(diào)節(jié)所述掩膜板貼合裝置中出氣口與所述金屬掩膜之間的距離;
通過所述出氣口向所述金屬掩膜中的第一貼合區(qū)域噴氣。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩膜板的貼合方法,其特征在于,
所述出氣口的出氣方向與金屬掩膜相互垂直。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩膜板的貼合方法,其特征在于,
所述出氣口的出氣方向與金屬掩膜之間具有預(yù)設(shè)夾角,所述預(yù)設(shè)夾角的角度為45度至60度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩膜板的貼合方法,其特征在于,
所述出氣口用于吹出惰性氣體。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





