[發明專利]超低缺陷部件處理在審
| 申請號: | 201711079849.2 | 申請日: | 2017-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN108130520A | 公開(公告)日: | 2018-06-08 |
| 發明(設計)人: | 伊恩·斯科特·拉奇福德;瑪麗·安妮·普萊諾 | 申請(專利權)人: | 朗姆研究公司 |
| 主分類號: | C23C16/02 | 分類號: | C23C16/02;C23C14/02 |
| 代理公司: | 上海勝康律師事務所 31263 | 代理人: | 樊英如;邱曉敏 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 預定時間段 部件處理 低缺陷 真空室 烘烤 室內 襯底處理室 表面去除 組件裝載 去除 清掃 裝載 | ||
1.一種用于去除和防止襯底處理室的組件的表面上的缺陷的方法,所述方法包括:
將所述組件裝載到真空室中;并且
在所述組件被裝載在所述真空室內的情況下,
(i)在第一預定時間段期間在烘烤溫度下烘烤所述組件以從所述組件的表面去除水和缺陷,以及
(ii)在至少一個第二預定時間段期間清掃所述真空室內的所述組件以從所述真空室中除去所述缺陷。
2.根據權利要求1所述的方法,其還包括(iii)在從所述真空室移除所述組件并將所述組件安裝在所述襯底處理室內之前,任選地將保護性涂層沉積到所述組件的所述表面上。
3.根據權利要求1所述的方法,其中所述烘烤溫度為約200℃。
4.根據權利要求1所述的方法,其中所述組件對應于所述襯底處理室的噴頭。
5.根據權利要求1所述的方法,其中所述第二預定時間段在所述第一預定時間段之后。
6.根據權利要求1所述的方法,其中,所述第一預定時間段和所述第二預定時間段重疊。
7.根據權利要求1所述的方法,其中,執行所述清掃持續兩個或更多個所述第二預定時間段。
8.根據權利要求7所述的方法,其中所述兩個或更多個所述第二預定時間段在所述第一預定時間段內。
9.根據權利要求2所述的方法,其中(i)和(ii)在(iii)之前重復兩次或更多次。
10.一種用于在打開襯底處理室之前蒸氣涂覆所述襯底處理室的組件的方法,所述方法包括:
(i)接收所述襯底處理室將被打開的指示;
(ii)響應于(i),提供蒸氣到所述襯底處理室,以將疏水性蒸氣涂層施加到所述襯底處理室的所述組件和內表面;
(iii)清掃所述襯底處理室;以及
(iv)選擇性地重復(ii)和(iii)。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于朗姆研究公司,未經朗姆研究公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711079849.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種基板支撐結構及蒸鍍設備
- 下一篇:對準器結構及對準方法
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





