[發明專利]一種碲化鎘薄膜太陽能電池的吸收層摻磷工藝在審
| 申請號: | 201711079836.5 | 申請日: | 2017-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN107731963A | 公開(公告)日: | 2018-02-23 |
| 發明(設計)人: | 彭壽;馬立云;潘錦功;殷新建;楊少飛 | 申請(專利權)人: | 成都中建材光電材料有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 成都市集智匯華知識產權代理事務所(普通合伙)51237 | 代理人: | 李華,溫黎娟 |
| 地址: | 610000 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 碲化鎘 薄膜 太陽能電池 吸收 層摻磷 工藝 | ||
1.一種碲化鎘薄膜太陽能電池吸收層摻磷的工藝,包括以下步驟
1)依次沉積透明導電層、高電阻層以及窗口層;
2)在磷氣氛下沉積碲化鎘薄膜獲得摻磷碲化鎘薄膜,所述磷氣氛為磷在真空條件下高溫蒸發獲得;
3)在氯化鎘氣氛下高溫處理摻磷碲化鎘薄膜,后沉積背接觸層,高溫退火后封裝。
2.根據權利要求1所述的工藝,其特征在于,所述步驟2)沉積的基板溫度為200℃-650℃。
3.根據權利要求1所述的工藝,其特征在于,所述步驟2)磷蒸發溫度為200℃-700℃。
4.根據權利要求1所述的工藝,其特征在于,所述步驟2)沉積壓力為0.01帕斯卡到100000帕斯卡。
5.根據權利要求4所述的工藝,其特征在于,所述步驟2)沉積壓力為10帕斯卡到1000帕斯卡。
6.根據權利要求1所述的工藝,其特征在于,所述步驟2)磷分壓為0.01帕斯卡到100000帕斯卡。
7.根據權利要求6所述的工藝,其特征在于,所述步驟2)磷分壓為1帕斯卡到10帕斯卡。
8.根據權利要求1所述的工藝,其特征在于,所述磷為紅磷或白磷中的一種。
9.根據權利要求1所述的工藝,其特征在于,所述步驟2)在氣體保護下進行,所述氣體為氮氣和/或氬氣,所述氣體壓力為10帕斯卡到100000帕斯卡。
10.根據權利要求1所述的工藝,其特征在于,所述摻磷碲化鎘薄膜厚度為0.1微米到10微米。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





