[發明專利]一種具有定量滴膠的磁懸浮式涂膠機

有效

• 申請號: 201711065084.7
• 申請日: 2017-11-02
• 公開（公告）號: CN107837983B
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 黃明宇;侍崇詩;冒衛星;王冰;陳嚴希;倪紅軍;陳國鈞
• 申請（專利權）人: 南通大學
• 主分類號: B05B16/00
• 分類號: B05B16/00;B05B13/02;B05B9/04;B05B15/68;B05B12/10;B05B12/08;B05B12/32
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 顧森燕

本發明公開了一種具有定量滴膠功能的磁懸浮式涂膠機，包括殼體，安裝在殼體頂端的定量滴膠機構，安裝在殼體內部的磁懸浮電主軸，安裝在磁懸浮電主軸頂端的托盤，以及安裝在磁懸浮頂端位于托盤下方的負壓吸附機構，基片放置在托盤上，根據負壓吸附原理在底部產生負壓實現吸附，通過磁懸浮電主軸驅動托盤旋轉，定量滴膠機構在基片上方定量滴膠，實現均勻涂覆。

技術領域

本發明涉及涂膠機，具體涉及一種具有定量滴膠功能的磁懸浮式涂膠機，可以實現基片表面定量均勻涂膠。

背景技術

涂膠機又稱甩膠機、旋轉涂膜機，原理是在高速旋轉的基片上，基片多為硅片，滴注各類膠液，利用離心力和表面張力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，形成一層薄膜，離心勻膠過程是光刻工藝中首要關鍵的一個步驟。涂膠過程中滴膠劑量的可控性、基片的固定、主軸旋轉的平穩性、數據監測的可觀性以及轉速時間等因素的可調性都是應予考慮的重要因素，決定著最終光刻工藝中圖形的清晰度、膠的粘度以及膠膜厚度的均勻性。

在現有的涂膠機中，主軸為傳統的機械軸承支承，使得轉動過程存在摩擦、噪聲大的問題，而且機械軸承結構復雜、壽命短，同時傳統主軸需要進行潤滑以及良好的密封，也難以保證和控制旋轉工作臺的水平精度，主軸旋轉不平穩，易導致膠膜涂覆的不均勻。

此外，由于涂膠基片極薄，幾乎無法采用夾持的方式固定，所以現有涂膠機采用抽氣泵產生吸附力從而克服離心力和表面張力使涂膠機工作時涂膠基片始終固定在相應位置。但是抽氣泵存在體積大、噪聲大的缺點，同時現有涂膠機的滴膠過程采用人工手動，這樣會導致滴膠位置誤差，也難以控制和記錄滴膠量。

發明內容

為克服現有技術的缺陷，本發明提供了一種具有定量滴膠功能的磁懸浮式涂膠機，可以實現穩定均勻的涂覆。

本發明揭示了一種具有定量滴膠功能的磁懸浮式涂膠機，包括殼體，安裝在殼體頂端的定量滴膠機構，安裝在殼體內部的磁懸浮電主軸，安裝在磁懸浮電主軸頂端的托盤，以及安裝在磁懸浮頂端位于托盤下方的負壓吸附機構，其中：

定量滴膠機構包括膠瓶，膠管，定量泵，調節機構以及噴頭，噴頭通過膠管穿插在膠瓶內，而定量泵安裝在膠管上將膠瓶內的膠液抽取至噴頭噴出，膠瓶位于殼體外部，噴頭穿過殼體頂壁延伸至殼體內部，且通過安裝在殼體內部的調節機構實現上下滴膠位置調節；

所述殼體內部中間位置具有工作臺，下方具有下隔板，磁懸浮電主軸卡裝在工作臺與下隔板之間，且兩端分別穿過工作臺與下隔板，所述磁懸浮電主軸頂部設置了凹槽，且磁懸浮電主軸中軸線上具有上下貫通的氣道連通凹槽；

所述負壓吸附機構包括穿插在氣道內的支撐桿，固定在支撐桿上端位于凹槽內的電機，安裝在電機軸上的風扇組，且風扇組的吸風面朝上，支撐桿底端固定在殼體底面上，所述電機驅動風扇組轉動，在凹槽內形成負壓；

所述托盤安裝在磁懸浮電主軸頂端且位于噴頭正下方，其中心具有吸附孔，磁懸浮電主軸驅動托盤旋轉，負壓吸附機構在凹槽及吸附孔內形成負壓，吸住托盤上放置的基片。

作為優選，所述殼體表面鉸接有操作門，該操作門上具有透明觀察窗和把手。

作為優選，所述殼體表面嵌裝有控制面板，具有顯示屏，多個操作按鈕，控制面板對應的殼體背面安裝有控制板，所述電機，磁懸浮電主軸以及定量泵與控制板電連接。

作為優選，所述風扇組為多個扇葉上下排布，且吸風面均朝上。

作為優選，所述磁懸浮電主軸頂部凹槽內還安裝有輔助吸附機構，其位于負壓吸附機構上方，為一帶外框的風扇，通過緊固件固定安裝在凹槽內，風扇的吸風面朝向吸附孔。

作為優選，所述膠瓶及膠管外部罩有保溫套。