[發(fā)明專利]拋光液及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711062417.0
• 申請(qǐng)日: 2017-11-02
• 公開（公告）號(hào): CN107629701B
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李俊鋒;李青;徐興軍;張廣濤;閆冬成;王麗紅;鄭權(quán)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東旭光電科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C09G1/02
• 分類號(hào): C09G1/02
• 代理公司: 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283
• 代理人: 嚴(yán)政;劉依云

本發(fā)明涉及玻璃制造領(lǐng)域，具體涉及一種拋光液及其制備方法，其中所述拋光液含有磨料、氧化劑、分散劑和pH調(diào)節(jié)劑，以磨料、氧化劑和分散劑的總量為基準(zhǔn)，磨料含量為55?80重量％，氧化劑含量為2?20重量％，分散劑含量為6?25重量％，所述制備方法包括將磨料和分散劑溶解于水中，攪拌均勻后加入氧化劑，攪拌均勻后加入pH調(diào)節(jié)劑，本發(fā)明還涉及玻璃拋光方法，包括使用本發(fā)明所述拋光液對(duì)玻璃進(jìn)行拋光處理。本發(fā)明所制拋光液，溶液分散穩(wěn)定性、拋光效率高，玻璃拋光后表面粗糙度低、玻璃表面平整，而且拋光液通過高強(qiáng)度機(jī)械摩擦，增強(qiáng)了各種復(fù)合組分的密切接觸與相互作用，充分發(fā)揮各組分協(xié)同增效功能，使拋光液性能更優(yōu)良。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及玻璃制造領(lǐng)域，具體涉及一種拋光液及其制備方法。

背景技術(shù)

光學(xué)玻璃對(duì)玻璃表面光潔度要求很高，后加工過程中，拋光過程決定了成板玻璃的品質(zhì)，目前市面上的拋光液在使用過程中會(huì)出現(xiàn)凝結(jié)、拋光效率低、玻璃表面質(zhì)量差等問題，并且現(xiàn)有的拋光液的懸浮性和分散性較差。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的拋光效率低、玻璃表面質(zhì)量差以及現(xiàn)有的拋光液的懸浮性和分散性較差的問題，提供了一種拋光液及其制備方法。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明一方面提供了一種拋光液，其中，所述拋光液含有磨料、氧化劑、分散劑和pH調(diào)節(jié)劑，以磨料、氧化劑和分散劑的總量為基準(zhǔn)，所述磨料的含量為55-80重量％，所述氧化劑的含量為2-20重量％，所述分散劑的含量為6-25重量％。。

本發(fā)明另一方面提供了一種上述拋光液的制備方法，其中，所述方法包括先將磨料和分散劑溶解于水中，攪拌均勻后加入氧化劑，攪拌均勻后加入pH調(diào)節(jié)劑。

本發(fā)明第三方面提供了一種玻璃拋光方法，其中，所述方法包括使用本發(fā)明所述的拋光液對(duì)玻璃進(jìn)行拋光處理。

本發(fā)明所述拋光液呈堿性，有利于玻璃的拋光；在拋光液中加入氧化劑，能夠在短時(shí)間內(nèi)在玻璃表面形成一層結(jié)合力弱的氧化膜，有利于機(jī)械去除，提高了玻璃去除率，節(jié)省拋光時(shí)間；加入分散劑，保證溶液具有足夠的分散穩(wěn)定性，拋光面不易劃傷，不損傷拋光機(jī)。與現(xiàn)有的拋光液相比，本發(fā)明所制拋光液，溶液分散穩(wěn)定性、拋光效率高，玻璃拋光后表面粗糙度低、玻璃表面平整。此外，本發(fā)明所述的拋光液通過高強(qiáng)度機(jī)械摩擦，增強(qiáng)各種復(fù)合組分的密切接觸與相互作用，充分發(fā)揮各種復(fù)合組分的協(xié)同增效功能，使得拋光液性能更為優(yōu)良。

具體實(shí)施方式

在本文中所披露的范圍的端點(diǎn)和任何值都不限于該精確的范圍或值，這些范圍或值應(yīng)當(dāng)理解為包含接近這些范圍或值的值。對(duì)于數(shù)值范圍來說，各個(gè)范圍的端點(diǎn)值之間、各個(gè)范圍的端點(diǎn)值和單獨(dú)的點(diǎn)值之間，以及單獨(dú)的點(diǎn)值之間可以彼此組合而得到一個(gè)或多個(gè)新的數(shù)值范圍，這些數(shù)值范圍應(yīng)被視為在本文中具體公開。

本發(fā)明一方面提供了一種拋光液，其中，所述拋光液含有磨料、氧化劑、分散劑和pH調(diào)節(jié)劑，以磨料、氧化劑和分散劑的總量為基準(zhǔn)，所述磨料的含量為55-80重量％，所述氧化劑的含量為2-20重量％，所述分散劑的含量為6-25重量％。

優(yōu)選地，以磨料、氧化劑和分散劑的總量為基準(zhǔn)，所述拋光液含有56-70重量％的磨料、5-15重量％的氧化劑和10-20重量％的分散劑。

在本發(fā)明中，優(yōu)選地，所述磨料為稀土氧化物，進(jìn)一步優(yōu)選地，所述磨料為CeO₂和/或La₂O₃。本發(fā)明的氧化鈰和氧化鑭磨料硬度適中，粒度細(xì)且粒度分布均勻，適用于精密儀器的拋光。

在本發(fā)明中，CeO₂和La₂O₃的重量比可以為2-5:0.5-2，優(yōu)選為1.5-4:0.55-1.8。本發(fā)明中的CeO₂和La₂O₃磨料混合形成的混合磨料，更有利于提高被拋光材料的去除率和平整度。