[發(fā)明專利]晶圓預(yù)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)定位方法、定位裝置及定位電路系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711059609.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-11-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107768294A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-03-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 汪梅花 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 成都吱吖科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/68 | 分類號(hào): | H01L21/68;H01L21/683;H01L21/687 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 610041 四川省成都市成都高*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶圓預(yù) 對(duì)準(zhǔn) 系統(tǒng) 定位 方法 裝置 電路 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及精密儀器檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,尤其是晶圓預(yù)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)定位方法、定位裝置及定位電路系統(tǒng)。
背景技術(shù)
晶圓是指半導(dǎo)體集成電路制作用的硅片,由硅晶棒經(jīng)切段,滾磨,切片,倒角,拋光,激光刻等工藝加工而來(lái)。由于其形狀為圓形,故稱為晶圓。硅晶片可用于加工特定電性功能的IC產(chǎn)品,本文中用于檢測(cè)的晶圓片用來(lái)制作二極管的原材料。
目前,集成電路(IC)的發(fā)展成為一種趨勢(shì),作為電子信息產(chǎn)業(yè)的核心,不斷推動(dòng)國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)信息化發(fā)展[1]。IC產(chǎn)業(yè)的這種高速擴(kuò)張也為IC制造裝備帶來(lái)了廣闊的發(fā)展空間,本課題中的設(shè)備,公司稱為倒角機(jī),由公司設(shè)計(jì)用來(lái)完成晶圓片的倒角工藝。
IC產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展有兩個(gè)重要因素,不斷更新的制造工藝和更高性能IC制造裝備的研制[2]。IC產(chǎn)業(yè)若要獲得長(zhǎng)足的發(fā)展,必須要不斷改進(jìn)IC制造裝備,晶圓片硬而脆的特性也給IC制造工藝的精度帶來(lái)了更加嚴(yán)苛的要求。為提高制造過(guò)程的效率,必須要實(shí)現(xiàn)IC制造過(guò)程的機(jī)械化、自動(dòng)化和智能化[3]。
生產(chǎn)線,晶圓在各設(shè)備間進(jìn)行傳送來(lái)完成各種工藝,過(guò)程中對(duì)晶圓片姿態(tài)的調(diào)整將由晶圓處理系統(tǒng)來(lái)完成。目前,半導(dǎo)體加工工藝已經(jīng)從微米級(jí)發(fā)展到亞微米級(jí),IC制造設(shè)備對(duì)各個(gè)分系統(tǒng)在加工精度方面的要求變的更加嚴(yán)苛。晶圓處理系統(tǒng)涉及多個(gè)領(lǐng)域,包括機(jī)械、電子、光學(xué)、計(jì)算機(jī)控制等,繁瑣的加工工藝進(jìn)一步提高了晶圓處理系統(tǒng)的設(shè)計(jì)難度,其最后的執(zhí)行結(jié)果直接影響整條生產(chǎn)線的精度和生產(chǎn)效率。
目前,國(guó)外對(duì)于晶圓預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的研究已經(jīng)有了豐碩的成果,像美國(guó)、日本、德國(guó)等國(guó)家,很多高性能的裝置已經(jīng)廣泛用于工業(yè)生產(chǎn)。不僅定位精度高,定位時(shí)間短,還能用于多種尺寸的檢測(cè)。
國(guó)內(nèi)對(duì)晶圓預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置也有研究,該裝置的研制已經(jīng)被納入了國(guó)家“863”計(jì)劃,哈爾濱工業(yè)大學(xué),西安交大,上海交大都有了一些研究成果,但都局限在裝置的單體研發(fā),離產(chǎn)品化和用于工業(yè)自動(dòng)化生產(chǎn)方面還有很大距離。
因此,對(duì)于上述問(wèn)題有必要提出晶圓預(yù)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)定位方法、定位裝置及定位電路系統(tǒng)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供了一種定位效果顯著,穩(wěn)定性良好的晶圓預(yù)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)定位方法、定位裝置及定位電路系統(tǒng)。
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
晶圓預(yù)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)定位方法,其方法步驟為:機(jī)械手臂從儲(chǔ)物盒中吸附晶圓
片并放置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)上;晶圓片旋轉(zhuǎn)一周,由光學(xué)線陣CCD檢測(cè)晶圓邊緣信息,即晶圓邊緣在固定坐標(biāo)系下的位置信息,旋轉(zhuǎn)臺(tái)順時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn),原點(diǎn)即為旋轉(zhuǎn)中心,以看到切邊此時(shí)正對(duì)著x軸的正方向,也就是晶圓片角度校正后切邊所對(duì)的位置;計(jì)算晶圓在固定坐標(biāo)系下的切邊方向偏移量并旋轉(zhuǎn)至指定方向;計(jì)算切邊定位完成后晶圓圓心的坐標(biāo),機(jī)械手臂吸附晶圓片旋轉(zhuǎn)90°,放置晶圓片到新的載物臺(tái),定位晶圓圓心到載物臺(tái)中心位置,轉(zhuǎn)動(dòng)砂輪研磨切邊;傳送晶圓片到同方向上的另一載物臺(tái),定位圓心,旋轉(zhuǎn)載物臺(tái),轉(zhuǎn)動(dòng)砂輪研磨弧邊。
晶圓預(yù)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)定位裝置,包括伺服電機(jī)和支架,所述伺服電機(jī)的上端設(shè)置有旋轉(zhuǎn)臺(tái),所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)放置有晶圓片,所述伺服電機(jī)的下部連接有光電編碼器。
優(yōu)選地,所述支架的底上部設(shè)置有感光傳感器,所述支架的頂下部設(shè)置有激光發(fā)射器,所述感光傳感器接收激光發(fā)射器所發(fā)射出的平行光束。
優(yōu)選地,所述光電編碼器旋轉(zhuǎn)過(guò)程中能將被測(cè)軸轉(zhuǎn)過(guò)的角度轉(zhuǎn)化成脈沖信號(hào),伺服電機(jī)用來(lái)控制被測(cè)軸的旋轉(zhuǎn)速度,轉(zhuǎn)速不變,脈沖頻率不變,每個(gè)脈沖代表的角度就是確定的,通過(guò)計(jì)算脈沖個(gè)數(shù)即可求得邊緣點(diǎn)所在角度。伺服電機(jī)控制旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)一周的過(guò)程中,產(chǎn)生的脈沖總數(shù)可調(diào),可根據(jù)精度要求做調(diào)整。
晶圓預(yù)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)定位電路系統(tǒng),包括單片機(jī)、PLC和FPGA,所述單片機(jī)通過(guò)485通訊連接PLC,所述單片機(jī)連接FPGA,所述FPGA分別連接有片外存儲(chǔ)器、4細(xì)分和高速AD。
優(yōu)選地,所述高速AD通過(guò)運(yùn)放連接模擬量信號(hào),所述模擬量信號(hào)連接線陣CCD。
優(yōu)選地,所述4細(xì)分通過(guò)AB相正交編碼信號(hào)連接光電編碼器,所述光電編碼器通過(guò)開(kāi)關(guān)量信號(hào)連接FPGA。
優(yōu)選地,所述的定位裝置采集到每個(gè)邊緣點(diǎn)的極坐標(biāo)(,),轉(zhuǎn)換為直角坐標(biāo)(,),即(,)。若要使目標(biāo)函數(shù)值最小,即使得
(3-8)
最小,其中為邊緣點(diǎn)(,)到晶圓幾何中心(X,Y)的距離;
對(duì)公式(3-8)做線性化處理,可轉(zhuǎn)換為
(3-9)
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于成都吱吖科技有限公司,未經(jīng)成都吱吖科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711059609.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 改善晶圓缺陷的方法
- 晶圓承載裝置
- 集成電路晶圓預(yù)對(duì)位裝置及預(yù)對(duì)位方法
- 預(yù)塑封引線框架的晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu)
- 集成電路晶圓預(yù)對(duì)位裝置
- 預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置及應(yīng)用于該裝置的預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法
- 預(yù)潤(rùn)濕設(shè)備、預(yù)潤(rùn)濕系統(tǒng)及晶圓預(yù)潤(rùn)濕的預(yù)處理方法
- 晶圓預(yù)對(duì)位和晶圓ID讀取方法、裝置和計(jì)算機(jī)設(shè)備
- 晶圓鍵合的方法
- 預(yù)潤(rùn)濕設(shè)備及預(yù)潤(rùn)濕系統(tǒng)
- 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,對(duì)準(zhǔn)方法和對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
- 對(duì)準(zhǔn)裝置及對(duì)準(zhǔn)方法
- 對(duì)準(zhǔn)裝置、用于這樣的對(duì)準(zhǔn)裝置的對(duì)準(zhǔn)元件和對(duì)準(zhǔn)方法
- 對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及其對(duì)準(zhǔn)方法
- 對(duì)準(zhǔn)裝置和對(duì)準(zhǔn)方法
- 對(duì)準(zhǔn)裝置及對(duì)準(zhǔn)方法
- 使用物理對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和虛擬對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)
- 使用物理對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和虛擬對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)
- 對(duì)準(zhǔn)裝置和對(duì)準(zhǔn)方法
- 對(duì)準(zhǔn)裝置及對(duì)準(zhǔn)方法





