[發明專利]一種用于環規清洗的設備在審
| 申請號: | 201711059571.2 | 申請日: | 2017-11-01 |
| 公開(公告)號: | CN107583910A | 公開(公告)日: | 2018-01-16 |
| 發明(設計)人: | 盧丹丹 | 申請(專利權)人: | 盧丹丹 |
| 主分類號: | B08B3/04 | 分類號: | B08B3/04;B08B3/12;B08B13/00;F26B9/06;F26B21/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 476733 河南*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 清洗 設備 | ||
技術領域
本發明涉及機械制造領域,特別涉及一種用于環規清洗的設備。
背景技術
環規是一種常用的校正其他儀器的圓環,環規一般不單獨使用,而是配合其他量具一起使用,環規根據外觀、用途以及制造標準可以分為多種不同的環規。
現在的環規大多采用自動化生產,其生產效率和成品率均相當高,但是,剛生產出來的環規由于生產環境的原因,其表面往往附著著油漬、材質殘屑以及灰塵等,所以需要對環規進行先進行清洗,將其表面雜質去除,再將通過檢測的環規包裝,現在的環規清洗大多采用人工清洗,人工清洗需要大量的勞動力,且人工成本高,效率底下,人工清洗中難免會發生碰撞,導致環規損壞,人工清洗時對環規的一些邊縫會清洗不到,針對上述問題,提供一種環規的清洗設備。
發明內容
本發明的目的在于針對現有技術的不足,提供一種用于環規清洗的設備。
為解決上述問題,本發明提供以下技術方案:
一種用于環規清洗的設備,包括上料裝置、運輸裝置、浸泡箱、超聲波清洗器、干燥裝置和下料裝置,所述上料裝置、浸泡箱、超聲波清洗器、干燥裝置和下料裝置依次呈圓周均勻分布于運輸裝置的周邊,所述運輸裝置包括第一電機、轉盤和五個呈圓周分布于轉盤上的運輸組件,第一電機呈豎直設置且其輸出端向上,轉盤與第一電機的輸出端傳動連接,每個運輸組件包括第二電機、轉輪、鋼索、安裝框、連接塊和限位軌道,所述第二電機與轉輪均位于轉盤的上端,第二電機的輸出端與轉輪傳動連接,鋼索的一端與轉輪固定連接,其另一端與連接塊固定連接,限位軌道位于轉輪的下端且其上端與轉輪固定連接,連接塊的下端與安裝框固定連接,連接塊的兩端設有與限位軌道滑動配合的凸塊,安裝框的內部兩側均設有若干個呈等間距分布的限位棱,安裝框兩側的限位棱呈對稱設置,安裝框靠近第一電機的一側設有限位條,所述限位條的上端面的水平高度高于與其連接的限位棱的上端面的水平高度,所述轉盤上設有供鋼索穿過的通孔。
進一步的,所述上料裝置包括第一安裝座、定位棱和第一氣缸,所述第一氣缸和定位棱均安裝在第一安裝座的上端,第一安裝座與位于其旁側的安裝框貼合,第一氣缸的輸出方向朝向第一電機,定位棱與第一氣缸平行設置。
進一步的,所述上料裝置、運輸裝置和下料裝置上均設有環規架,環規架包括邊框和位于底部的安裝網,所述安裝網上設有若干個呈等間距分布的定位塊。
進一步的,所述浸泡箱位于運輸組件運動軌跡的下方,浸泡箱的上端設有第一入口,浸泡箱的兩側上分別設有進水口和出水口,所述進水口和出水口處均設有電磁閥。
進一步的,所述超聲波清洗器的上端設有第二入口,超聲波清洗器位于運輸組件運動軌跡的下方。
進一步的,所述干燥裝置包括干燥箱和角度可調節的風扇,干燥箱位于運輸組件運動軌跡的下方,風扇位于干燥箱的旁側且風扇吹的風朝向干燥箱內部,干燥箱內設有加熱塊,干燥箱的底部設有排水口。
進一步的,所述下料裝置包括第二安裝座、第二氣缸和下料組件,第二氣缸呈水平設置于第二安裝座的上端且第二氣缸的輸出端朝向第一電機,下料組件與第二氣缸的輸出端固定連接。
進一步的,所述下料組件包括呈L型的連接板和下料板,所述下料板的上端與連接板的一端鉸接,連接板上靠近下料板的一端設有用于收納下料板的凹槽,下料板的上端靠近L型板的拐角為圓角,下料板的上端遠離L型板的拐角為直角。
進一步的,所述第二電機外均設有用于固定其自身的殼體,殼體均與轉盤通過螺栓固定連接,所有所述轉輪的兩端均設有用于支撐其自身的支撐架,支撐架的下端均與轉盤固定連接。
有益效果:本發明的一種用于環規清洗的設備,通過第一氣缸的推動作用將放置有環規的環規架推至安裝框內,通過運輸裝置帶動安裝框內的環規依次經過浸泡箱、超聲波清洗器和干燥箱完成對環規的浸泡、清洗和干燥,再將其運至下料組件,通過第二氣缸與下料組件的配合將安裝框內的環規架抽出,完成清洗后的下料,該環規的清洗設備能夠完成對環規的自動清洗,且通過浸泡和超聲波清洗兩個步驟能夠實現對環規上邊縫以及死角的清洗,在清洗過程中對環規定位,避免了清洗時碰撞等情況的發生,提高了環規清洗的效率,減少勞動力的使用,降低生產成本,其結構簡單,實用性強。
附圖說明
圖1為本發明的立體結構示意圖一;
圖2為本發明的立體結構示意圖二;
圖3為本發明的局部剖視圖一;
圖4為本發明的局部立體結構示意圖;
圖5為本發明的局部剖視立體結構示意圖一;
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