[發明專利]防撞裝置及曝光機臺有效
| 申請號: | 201711046800.7 | 申請日: | 2017-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN109725495B | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發明(設計)人: | 叢國棟;張志鋼;李志龍;管博然 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 201203 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 曝光 機臺 | ||
本發明提供一種防撞裝置及曝光機臺,所述防撞裝置包括力傳遞機構和緩沖機構,所述力傳遞機構包括一環形結構,所述環形結構用于以非接觸的方式包圍一物體;所述緩沖機構為多個并用于在所述物體的四周設置,多個所述緩沖機構用于分別與所述物體以及所述力傳遞機構連接。所述曝光機臺包括曝光臺以及所述防撞裝置。本發明提供的防撞裝置能夠承受所述物體由于慣性而產生的碰撞,避免了所述物體與其他部件發生直接碰撞,保護了所述物體和所述其他部件;同時,此種結構的防撞裝置占用空間小以及可承受來自所述物體任意方向上的碰撞。
技術領域
本發明涉及半導體制造領域,具體涉及一種防撞裝置及曝光機臺。
背景技術
在半導體制造領域,光刻裝置能夠將具有不同掩膜圖案的多層掩膜在精確對準下,依次成像在涂覆有光刻膠的晶片上。所述光刻裝置具有用于承載所述晶片的曝光臺,所述光刻裝置在工作時,所述曝光臺由于慣性的作用,存在與所述光刻裝置內的其他部件發生碰撞的可能,所述光刻裝置內的各精密部件(如物鏡、對準裝置、測量部件等)可能會由于碰撞而損壞,因此為曝光臺設置防撞裝置至關重要。
現有的防撞裝置中,應用最多的為一維的油壓緩沖器、記憶合金防撞條以及由多根記憶合金組成的防撞部件。其中,一維的油壓緩沖器和記憶合金防撞條只能針對一個方向的碰撞產生緩沖作用,不能對斜碰撞產生緩沖作用;由多根記憶合金組成的防撞部件雖可對任意方向的碰撞產生緩沖作用,但其具有占用空間大、自身重量大等缺陷。
發明內容
本發明的目的在于提供一種防撞裝置及曝光機臺,以解決現有技術中的光刻裝置在工作時,由于慣性的作用,其內的曝光臺會與其內的其他部件發生碰撞,而造成光刻裝置內的各精密部件損壞的問題。
為實現上述目的,本發明提供一種防撞裝置,包括:
力傳遞機構,所述力傳遞機構包括一環形結構,所述環形結構用于以非接觸的方式包圍一物體;以及
緩沖機構,所述緩沖機構為多個并用于在所述物體的四周設置,多個所述緩沖機構用于分別與所述物體以及所述力傳遞機構連接。
可選的,所述連接機構包括滑塊,所述滑塊以可滑動的方式與所述力傳遞機構連接。
可選的,所述力傳遞機構包括多個首尾相連的防撞臂,且任意兩個相鄰防撞臂以可轉動的方式連接。
可選的,所述緩沖機構包括緩沖器、連接桿以及導向器;所述導向器與所述物體固定連接,并用于限定所述連接桿的運動方向;所述連接桿的一端與所述緩沖器連接,另一端以可轉動的方式與所述力傳遞機構連接,所述緩沖器與所述物體固定連接。
可選的,所述導向器具有一個導向槽,所述連接桿在所述導向槽內活動。
可選的,所述緩沖器能夠受力拉升和/或壓縮。
可選的,當所述緩沖器僅能夠受力壓縮時,所述連接桿包括一個緩沖器滑竿以及一個導向器滑竿,所述緩沖器滑竿與所述導向器滑竿可分離式接觸。
可選的,所述緩沖機構包括第二導向器、楔塊、緩沖器、連接桿以及彈簧;
所述第二導向器固定安裝在所述物體之上,所述楔塊的一個面可滑動的連接于所述導向器,所述彈簧的兩端分別連接于所述導向器與所述楔塊,所述楔塊通過鉸鏈與所述力傳遞機構連接;
所述緩沖器與所述被保護物體的側面固定連接;
所述連接桿一端連接在所述緩沖器上,另一端可滑動的連接于所述楔塊的斜面上。
進一步的,本發明還提供一種曝光機臺,所述曝光機臺包括曝光臺以及所述防撞裝置,所述防撞裝置包括力傳遞機構以及緩沖機構,所述力傳遞機構包括一環形結構,所述環形結構以非接觸的方式包圍所述曝光臺,所述緩沖機構為多個并用于在所述曝光臺的四周設置,且多個所述緩沖機構分別與所述曝光臺以及所述力傳遞機構連接。
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