[發明專利]一種鋁電解槽中陽極炭塊的處理方法在審
| 申請號： | 201711033145.1 | 申請日： | 2017-10-30 |
| 公開（公告）號： | CN107574459A | 公開（公告）日： | 2018-01-12 |
| 發明（設計）人： | 王博一 | 申請（專利權）人： | 湖南博溥立材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C25C3/12 | 分類號： | C25C3/12 |
| 代理公司： | 北京弘權知識產權代理事務所(普通合伙)11363 | 代理人： | 逯長明,許偉群 |
| 地址： | 415900 湖南省常德市漢*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 電解槽 陽極 處理 方法 | ||
1.一種鋁電解槽中陽極炭塊的處理方法，所述鋁電解槽的陽極包括：鋁導桿、陽極鋼爪、爆炸焊塊和陽極炭塊；其特征在于，所述陽極炭塊包括：第一塊層和第二塊層；
所述第一塊層的側面為傾斜面，且所述第一塊層與第二塊層緊貼的一端的第一表面面積大于所述第一塊層的另一端的第二表面面積；
所述第二塊層的側面為豎直面，且所述第二塊層與所述第一塊層緊貼的一端的第三表面面積大于所述第一表面面積，所述第二塊層的另一端的第四表面面積與所述第三表面面積相等；
以水為介質，對用于處理所述陽極炭塊的納米陶瓷基涂層材料進行攪拌處理，使所述納米陶瓷基涂層材料的激光粒度檢測結果必須呈單峰對稱分布、動力粘度為350MPa·S-400MPa·S、涂層材料的濕態密度為1.90-2.00g/cm3、涂層材料的密度差異小于或等于0.05g/cm3以及無清液層；
將攪拌處理后的納米陶瓷基涂層材料噴涂在所述第一塊層和所述第二塊層的至少一部分表面，以便在所述陽極炭塊表面形成納米陶瓷基防氧化涂層。
2.根據權利要求1所述的陽極炭塊的處理方法，其特征在于，在所述陽極炭塊表面經過噴涂形成的所述納米陶瓷基防氧化涂層的厚度為0.1-1.98mm。
3.根據權利要求1所述的陽極炭塊的處理方法，其特征在于，所述納米陶瓷基防氧化涂層的耐壓強度大于或等于8MPa，所述納米陶瓷基防氧化涂層的抗折強度大于或等于3MPa。
4.根據權利要求1所述的陽極炭塊的處理方法，其特征在于，噴涂所述納米陶瓷基涂層材料所使用的噴涂壓力大于或等于25MPa。
5.根據權利要求1所述的陽極炭塊的處理方法，其特征在于，噴涂所述納米陶瓷基涂層材料所使用的噴涂距離為50-70cm。
6.根據權利要求1所述的陽極炭塊的處理方法，其特征在于，在距離所述第四表面大于等于15-17.8cm以上的區域噴涂所述納米陶瓷基涂層材料。
7.根據權利要求1所述的陽極炭塊的處理方法，其特征在于，所述納米陶瓷基涂層材料所需的攪拌時間為3-4分鐘。
8.根據權利要求1所述的陽極炭塊的處理方法，其特征在于，在噴涂所述納米陶瓷基涂層材料之前，需要預先清理所述陽極炭塊表面的碳粉。
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