[發(fā)明專利]一種用于電子元器件的浸潤工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711026938.0 | 申請日： | 2017-10-27 |
| 公開（公告）號： | CN107643593A | 公開（公告）日： | 2018-01-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 蔣祥春 | 申請（專利權(quán)）人： | 蔣祥春 |
| 主分類號： | G02B26/00 | 分類號： | G02B26/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 641200 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 電子元器件 浸潤 工藝 | ||
1.一種用于電子元器件的浸潤工藝，其特征在于：包括以下步驟，
步驟一：冷凍，提供液態(tài)油墨并將所述油墨冷凍成結(jié)晶狀態(tài)，將結(jié)晶狀態(tài)的所述油墨研磨成粉末狀；
步驟二：涂布，提供第一流體，將第一流體裝與步驟一種粉末狀油墨混合，沿著基板表面涂布置下方的基板；所述基板包括像素墻，所述像素墻包括多個像素格；
步驟三：填充，將步驟一中的粉末狀油墨，填充至步驟二所述像素格內(nèi)；
步驟四：吸收，提供溫度為80-120℃的電解質(zhì)溶液，將經(jīng)填充處理后的所述基板浸入所述電解質(zhì)溶液中1-2小時；
步驟五：烘干，取出步驟四中的基板，烘干處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于電子元器件的浸潤工藝，其特征在于：所述步驟二中的第一流體包括溶劑，所述溶劑為C 6～C 16的烷類、環(huán)烷類、芳香族、脂肪族或硅油中任意一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于電子元器件的浸潤工藝，其特征在于：所述基板包括上基板和下基板，所述步驟2-5中的基板為上基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于電子元器件的浸潤工藝，其特征在于：所述步驟五中還包括蒸氣，取出步驟四中基板后，放入蒸氣室，蒸氣30分鐘后，取出烘干處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于電子元器件的浸潤工藝，其特征在于：所述蒸氣室，蒸氣壓為120Pa～300Pa。
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