[發明專利]反頜矯正裝置及反頜矯正方法

在審

• 申請號: 201711022873.2
• 申請日: 2017-10-27
• 公開（公告）號: CN107693139A
• 公開（公告）日: 2018-02-16
• 發明（設計）人: 岳利霞;張淑豪
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍總醫院
• 主分類號: A61C7/08
• 分類號: A61C7/08;A61N1/36;A61C7/10
• 代理公司: 北京京萬通知識產權代理有限公司11440
• 代理人: 齊曉靜

1.一種反頜矯正裝置，其包括支座、上頜座；

所述支座形成為圓弧形，用于垂直地在使用者睡覺時放置在床上，使得使用者的頭部位于圓弧形的支座的中心位置；所述支座內側設置有多個電磁鐵，所述多個電磁鐵沿著所述支座的圓弧形分布；所述支座進一步設置有朝向支座下方的紅外攝像頭；所述紅外線攝像頭對準使用者的頭部；

所述支座上還包括控制單元、電磁鐵驅動電路；控制單元自所述紅外線攝像頭接收使用者的頭部圖像，由此確定使用者的面部朝向，根據面部朝向，控制單元控制電磁鐵驅動電路向與使用者的面部正對的電磁鐵供電而產生磁力；

所述上頜座包括本體和牙套；所述本體形成呈弧形上凸的形狀，對應于使用者的上顎的弧線形狀；所述本體由剛性硬質材料制成；所述牙套設置在所述本體兩側，用于插入使用者的牙齒，由此，通過所述牙套將所述上頜座貼合使用者的口腔上顎而固定在使用者的口腔內；

所述本體前端內部形成有頂柱容納空間，頂柱容納空間包括腔室和通道，腔室完全包裹在所述本體內；所述通道一端與所述腔室連通，另一端延伸至所述本體的前端而與外部連通；所述頂柱容納空間中容納有頂柱；頂柱包括擋塊、支柱和頂塊；擋塊形成在支柱的第一端，頂塊形成在支柱的第二端；擋塊容納在所述腔室中并可以在腔室中滑動，擋塊的橫截面積大于所述通道的橫截面積；支柱自通道中穿過而延伸到所述本體外部，由此使得頂塊位于本體外部；支柱可在所述通道中滑動；

所述頂塊由鐵磁性物質構成；頂塊受到所述電磁鐵的吸引使得頂柱的一部分自頂柱容納空間中滑出，由此頂塊抵靠在使用者的上頜的端部，向上頜的端部施加壓力，刺激上頜向外生長，以糾正反頜。

2.如權利要求1所述的反頜矯正裝置，其特征在于：

所述頂塊形成為橢圓球體。

3.如權利要求1所述的反頜矯正裝置，其特征在于：

通過所述電磁鐵的電流為脈沖式電流，由此所述電磁鐵對所述頂塊施加脈沖式變化的力，頂塊對所述上頜頂端也產生脈沖式的壓力。

4.如權利要求3所述的反頜矯正裝置，其特征在于：

所述脈沖式電流的波形為正弦波或鋸齒波。

5.如權利要求1所述的反頜矯正裝置，其特征在于：

所述頂柱容納空間為一個。

6.如權利要求1所述的反頜矯正裝置，其特征在于：

所述頂柱容納空間為兩個。

7.如權利要求1所述的反頜矯正裝置，其特征在于：

所述擋塊與所述腔室之間設置有彈簧，所述彈簧向所述頂柱施加向外的推力。

8.一種反頜矯正方法，其通過支座、上頜座進行反頜矯正；

在使用者的口腔內貼合使用者的上顎而安裝上頜座，上頜座內可滑動地安裝有可向前滑動的頂柱，頂柱的前端由鐵磁性物質形成；頂柱前端抵靠在使用者上頜的下端；

繞使用者的頭部通過支座設置多個電磁鐵，使得所述多個電磁鐵所在的平面與使用者的頭部的縱向軸線垂直；

通過紅外線攝像頭確定使用者的面部朝向，根據該面部朝向，選擇性地使得與使用者的面部正對的電磁鐵工作，由此頂柱的鐵磁性物質受到該電磁鐵的吸引而向使用者的上頜的下端施加壓力，由此刺激上頜向外生長。

9.如權利要去7所述的反頜矯正方法，其特征在于：

所述電磁鐵上通過的電流為脈沖式電流，由此在使用者的上頜的下端作用的壓力的脈沖式壓力。