[發(fā)明專利]自動測方阻設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710994286.3 | 申請日: | 2017-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN107591342B | 公開(公告)日: | 2020-03-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 袁華斌 | 申請(專利權(quán))人: | 常州億晶光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 常州市英諾創(chuàng)信專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32258 | 代理人: | 鄭云 |
| 地址: | 213000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 自動 測方阻 設(shè)備 | ||
1.一種自動測方阻設(shè)備,其特征在于:包括上料部分、測試部分、下料部分和控制部分,所述上料部分包括上料區(qū)(1)、下片區(qū)(2)、第一緩存區(qū)(3)和校正區(qū)(4),所述測試部分包括測試區(qū)(5),所述下料部分包括第二緩存區(qū)(6)、分片區(qū)(7)、上片區(qū)(8)和下料區(qū)(9),所述上料區(qū)(1)、下片區(qū)(2)、第一緩存區(qū)(3)、校正區(qū)(4)、測試區(qū)(5)、第二緩存區(qū)(6)、分片區(qū)(7)、上片區(qū)(8)和下料區(qū)(9)呈流水線依次設(shè)置,所述控制部分分別控制上料區(qū)(1)、下片區(qū)(2)、第一緩存區(qū)(3)、校正區(qū)(4)、測試區(qū)(5)、第二緩存區(qū)(6)、分片區(qū)(7)、上片區(qū)(8)和下料區(qū)(9);所述上料區(qū)(1)包括傳輸裝置,兩組所述傳輸裝置上下間隔設(shè)置,所述傳輸裝置的右側(cè)固定安裝有右光電傳感器,所述右光電傳感器與所述控制部分電連接;所述下片區(qū)(2)包括下片裝置、夾緊裝置和輸送裝置,所述下片裝置包括聯(lián)動裝置和固定臺(2-1),所述聯(lián)動裝置驅(qū)動所述固定臺(2-1)實現(xiàn)升降,所述夾緊裝置固定安裝在所述固定臺(2-1)的上方,所述輸送裝置包括傳輸裝置和活動運輸裝置,所述傳輸裝置固定安裝在所述固定臺(2-1)上,并位于所述夾緊裝置的正下方,所述活動運輸裝置位于夾緊裝置與傳輸裝置之間。
2.如權(quán)利要求1所述的自動測方阻設(shè)備,其特征在于:所述第一緩存區(qū)(3)和第二緩存區(qū)(6)均包括聯(lián)動裝置、傳輸裝置和儲物籃,所述儲物籃罩設(shè)所述傳輸裝置,所述聯(lián)動裝置驅(qū)動所述儲物籃實現(xiàn)升降。
3.如權(quán)利要求2所述的自動測方阻設(shè)備,其特征在于:所述儲物籃包括卡板(3-1),兩個所述卡板(3-1)平行且間隔設(shè)置,所述傳輸裝置位于兩個所述卡板(3-1)之間,所述卡板(3-1)上開設(shè)有若干緩存槽(3-2),兩個所述卡板(3-1)上的緩存槽(3-2)一一對應(yīng)設(shè)置,所述卡板(3-1)上固定安裝有左、右光電傳感器,所述左、右光電傳感器分別位于緩存槽(3-2)的兩端。
4.如權(quán)利要求1所述的自動測方阻設(shè)備,其特征在于:所述校正區(qū)(4)包括傳輸裝置、左、右光電傳感器和校準(zhǔn)裝置,所述校準(zhǔn)裝置包括呈排排列的滑輪組(4-1)和驅(qū)動裝置,兩組所述滑輪組(4-1)分別位于傳輸裝置的兩側(cè),并與所述傳輸裝置平行設(shè)置,所述滑輪組(4-1)由驅(qū)動裝置驅(qū)動靠近或遠離傳輸裝置,所述左、右光電傳感器分別位于傳輸裝置的兩端。
5.如權(quán)利要求1所述的自動測方阻設(shè)備,其特征在于:所述測試區(qū)(5)包括傳輸裝置、測試平臺(5-1)、測試四探針面板和升降裝置,所述測試四探針面板固定安裝在所述測試平臺(5-1)上,所述測試平臺(5-1)位于所述所述傳輸裝置的正上方,所述升降裝置位于所述傳輸裝置的正下方,所述升降裝置上固定安裝有用于放置硅片的載物臺(5-2),所述升降裝置驅(qū)動載物臺(5-2)上的硅片靠近或遠離測試平臺(5-1),所述測試區(qū)(5)的左、右兩側(cè)分別固定安裝有左、右光電傳感器,所述左、右光電傳感器均與所述控制部分電連接。
6.如權(quán)利要求1所述的自動測方阻設(shè)備,其特征在于:所述分片區(qū)(7)包括傳輸裝置和運動裝置,所述傳輸裝置的左側(cè)固定安裝有左光電傳感器,所述左光電傳感器與所述控制部分電連接,所述運動裝置包括聯(lián)動裝置、升降裝置和吸盤(7-1),所述聯(lián)動裝置位于所述傳輸裝置的正上方,用于驅(qū)動升降裝置向傳輸裝置的前方或后方移動,所述升降裝置滑動安裝在所述聯(lián)動裝置上,所述吸盤(7-1)固定安裝在所述升降裝置上。
7.如權(quán)利要求1所述的自動測方阻設(shè)備,其特征在于:所述上片區(qū)(8)包括上片裝置、夾緊裝置和輸送裝置,所述上片裝置包括聯(lián)動裝置和固定臺(2-1),所述聯(lián)動裝置驅(qū)動所述固定臺(2-1)實現(xiàn)升降,所述夾緊裝置固定安裝在所述固定臺(2-1)的上方,所述輸送裝置包括傳輸裝置和活動運輸裝置,所述傳輸裝置固定安裝在所述固定臺(2-1)上,并位于所述夾緊裝置的正下方,所述活動運輸裝置位于夾緊裝置與傳輸裝置之間。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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