[發(fā)明專利]一種清除膜污染并控制副產(chǎn)物生成的組合式化學(xué)清洗方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710991292.3
• 申請(qǐng)日: 2017-10-23
• 公開（公告）號(hào): CN107596922B
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝鵬超;丁家琪;王宗平;萬穎;王晶文;鄒瑜佳;張立
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華中科技大學(xué)
• 主分類號(hào): B01D65/02
• 分類號(hào): B01D65/02
• 代理公司: 華中科技大學(xué)專利中心 42201
• 代理人: 許恒恒;李智

1.一種清除膜污染并控制副產(chǎn)物生成的組合式化學(xué)清洗方法，其特征在于，將受污染的膜組件采用過硫酸鹽氧化劑和含有次氯酸根的氧化劑進(jìn)行聯(lián)合清洗，具體方法包括：

先在所述過硫酸鹽氧化劑水溶液中浸泡，再在所述含有次氯酸根的氧化劑水溶液中浸泡；其原理是利用過硫酸鹽氧化劑攻擊膜表面附著的污染物質(zhì)，通過氧化還原反應(yīng)使其脫落從而清除膜污染，同時(shí)減少膜組件表面能夠與次氯酸鹽反應(yīng)生成毒性副產(chǎn)物的前體物，然后在含有次氯酸根的氧化劑中浸泡能夠進(jìn)一步去除膜表面的污染物質(zhì)，使膜通量得到有效恢復(fù)，同時(shí)大大減少毒性副產(chǎn)物的生成；

所述含有次氯酸根的氧化劑水溶液中次氯酸根的濃度為1～1000mg/L；所述過硫酸鹽氧化劑和含有次氯酸根的氧化劑的濃度比為1:1～10。

2.如權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述的過硫酸鹽為過一硫酸鹽或過二硫酸鹽。

3.如權(quán)利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述的過硫酸鹽為過一硫酸鉀、過一硫酸鈉、過二硫酸鉀和過二硫酸鈉中的一種或多種。

4.如權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述含有次氯酸根的氧化劑選自次氯酸、次氯酸鈉和次氯酸鉀中的一種或多種。

5.如權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于，在所述過硫酸鹽氧化劑水溶液中的浸泡時(shí)間為1～24h；在所述含有次氯酸根氧化劑水溶液中的浸泡的時(shí)間為1～24h。

6.如權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述過硫酸根氧化劑水溶液和所述含有次氯酸根氧化劑水溶液的pH范圍控制在2～12之間。

7.如權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述膜組件為聚偏氟乙烯、聚醚砜、聚乙烯、聚氯乙烯或陶瓷膜。

8.如權(quán)利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述受污染的膜組件為受有機(jī)污染、無機(jī)污染、微生物污染或代謝產(chǎn)物污染的膜組件。