[發(fā)明專利]基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的多晶硅LED/單晶硅PD縱向光互連系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710989423.4 | 申請日: | 2017-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN107895749B | 公開(公告)日: | 2019-06-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 毛陸虹;叢佳;謝生;郭維廉 | 申請(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/12 | 分類號: | H01L31/12 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201 | 代理人: | 杜文茹 |
| 地址: | 300192*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 標(biāo)準(zhǔn) cmos 工藝 多晶 led 單晶硅 pd 縱向 互連 系統(tǒng) | ||
一種基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的多晶硅LED/單晶硅PD縱向光互連系統(tǒng),在襯底上端面的中部嵌入有N阱,在N阱上端面的中部嵌入有中部淺溝道隔離層,在N阱的上端面嵌入有一圈光電探測器陰極連線端,在襯底和N阱相鄰處的上端面嵌入有一圈外側(cè)淺溝道隔離層,在襯底的上端面且位于外側(cè)淺溝道隔離層的外側(cè)嵌入有一圈光電探測器陽極連線端;光電探測器的上端設(shè)置有SiO2,PIN?LED結(jié)構(gòu)嵌入在SiO2內(nèi)且通過柵氧層設(shè)置在中部淺溝道隔離層的上端面上,SiO2內(nèi)對應(yīng)PIN?LED和光電探測器的各電極分別形成有若干個(gè)用于連接外部電源的連線孔,SiO2內(nèi)對應(yīng)PIN?LED結(jié)構(gòu)還嵌入有用于反光的光反射金屬板,光反射金屬板。本發(fā)明減少了光傳輸路程和散射損耗。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光互連系統(tǒng)。特別是涉及一種基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的多晶硅LED/單晶硅PD縱向光互連系統(tǒng)。
背景技術(shù)
隨著科學(xué)技術(shù)的迅猛發(fā)展,微電子產(chǎn)品正在向著小而精的方向發(fā)展。進(jìn)入21世紀(jì),微電子的發(fā)展遇到了物理極限的瓶頸。進(jìn)一步通過“摩爾定律”等比例縮小不僅會急劇增加制造成本,而且會導(dǎo)致不期望的物理效應(yīng)。另一個(gè)更為迫切的瓶頸在于微電子芯片內(nèi)電互連的延時(shí)和功耗。隨著集成度的提高,單個(gè)晶體管的延時(shí)越來越小,然而互連線的延時(shí)卻越來越大,并且互連線尺寸的減小使互連線電阻增加,從而增加了功耗。人們注意到光作為信號載體的光電子技術(shù)不僅傳輸速度快,頻率高,傳播信息容量大,而且在三維空間傳播,光束交叉時(shí)信號之間也不會產(chǎn)生串?dāng)_。如果將微電子技術(shù)與光電子技術(shù)相結(jié)合,用標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝在硅基襯底上制備全硅光電集成電路(OEIC),則可在維持集成電路工藝成本基本不變的前提下,使電路處理信息的速度有很大的提高。
高效的硅基發(fā)光器件(Si-LED)及光探測器是實(shí)現(xiàn)OEIC的基礎(chǔ)和核心。為此近些年研究人員對Si-LED及相應(yīng)的探測器進(jìn)行了大量的研究,設(shè)計(jì)了各種類型的Si-LED及探測器。雖然在OEIC的研究中不斷有新的理論被提出,單個(gè)器件的某些性能也有相當(dāng)?shù)奶岣撸欢脴?biāo)準(zhǔn)CMOS工藝制作OEIC的技術(shù)依然還不成熟,還有待于進(jìn)一步的研究。目前,與標(biāo)準(zhǔn)CMOS 工藝兼容性最好的器件為硅PN結(jié)發(fā)光器件,它發(fā)光的波長在Si基探測器可探測范圍內(nèi),具有較快的響應(yīng)速度,可以滿足硅光電集成的要求,因此在Si OEIC中有很好的應(yīng)用前景。PN 結(jié)在正向注入與反向擊穿情況都可以發(fā)出光,但正向發(fā)光相對反向發(fā)光工作電壓低、發(fā)光效率高,因此應(yīng)用前景更廣闊。然而單晶硅材料對于波長低于85Onm的光具有較強(qiáng)的吸收系數(shù),因此在可見光光互連系統(tǒng)中單晶Si發(fā)光功率和外量子轉(zhuǎn)換效率都很低。張興杰等人[1]基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝成功制備了多晶硅PIN-LED,且成功測試了其電學(xué)及光學(xué)特性與單晶Si-LED 非常相似,這證明了基于標(biāo)準(zhǔn)工藝制備多晶硅PIN-LED是可行的。這為我們提供了一種思路,用多晶硅制作LED進(jìn)行發(fā)光,單晶Si進(jìn)行接收,這樣能夠有效的減小單晶Si對LED發(fā)射光能的吸收,增加光互連系統(tǒng)的響應(yīng)度。專利[2]曾提出一種單晶硅LED及多晶硅PIN光電探測器組成的新型光互連結(jié)構(gòu)。但是其多晶硅探測器與單晶Si之間僅隔有一層薄柵氧,隔離電效應(yīng)和熱效應(yīng)的影響不好;其次其用單晶Si制備LED并沒有避免單晶Si對可見光的吸收;第三Si基LED正向偏置載流子注入發(fā)射紅外光,反向偏置擊穿雖發(fā)出可見光,但發(fā)光波長也在700nm左右,由于多晶硅層較薄,其對Si基LED發(fā)出的長波長光探測性能較弱,而單晶硅深結(jié)探測長波長光相對較好。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是,提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)芯片上光通信的同時(shí)有效的減少光傳輸路程,減少電干擾,增加光互連系統(tǒng)響應(yīng)度的基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝的多晶硅LED/單晶硅 PD縱向光互連系統(tǒng)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





