[發明專利]一種高溫噴嘴和降低高溫噴嘴腐蝕強度的方法在審
| 申請號: | 201710982153.4 | 申請日: | 2017-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN109694751A | 公開(公告)日: | 2019-04-30 |
| 發明(設計)人: | 吳治國 | 申請(專利權)人: | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司石油化工科學研究院 |
| 主分類號: | C10J3/50 | 分類號: | C10J3/50 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產權代理有限公司 11283 | 代理人: | 劉國平;顧映芬 |
| 地址: | 100728 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高溫噴嘴 吹氣部件 噴口 腐蝕 高溫煤氣化 高溫處理 噴射氣化 若干個孔 使用壽命 氣化爐 吹出 氧氣 緩解 | ||
1.一種高溫噴嘴,該高溫噴嘴的噴口外環面上設置有吹氣部件(10),所述吹氣部件(10)上具有若干個孔。
2.根據權利要求1所述的高溫噴嘴,其中,所述吹氣部件(10)上的孔的孔徑為0.1-5mm。
3.根據權利要求1所述的高溫噴嘴,其中,所述吹氣部件(10)上孔的開口方向與噴口的徑向橫截面的夾角為30-60°。
4.根據權利要求1-3中任意一項所述的高溫噴嘴,其中,所述吹氣部件(10)為氣室。
5.根據權利要求1-3中任意一項所述的高溫噴嘴,其中,所述吹氣部件(10)為環繞噴口外周設置的一個或多個環形管線。
6.根據權利要求1-3中任意一項所述的高溫噴嘴,其中,所述高溫噴嘴的內腔設置有氧氣供給通道和氣化原料供給通道(2),且所述氧氣供給通道和所述氣化原料供給通道各自連通至所述噴口。
7.根據權利要求6所述的高溫噴嘴,其中,所述氧氣供給通道包括中心氧通道(1)和外環氧通道(3),所述氣化原料供給通道(2)環繞所述中心氧通道(1)的外周設置,所述外環氧通道(3)環繞所述氣化原料供給通道(2)的外周設置。
8.根據權利要求7所述的高溫噴嘴,其中,所述吹氣部件(10)的供氣通道沿著所述外環氧通道(3)的外壁設置。
9.根據權利要求1-3中任意一項所述的高溫噴嘴,其中,所述高溫噴嘴的側壁上設置有冷卻部件(8);
優選地,所述冷卻部件(8)為冷卻水盤管。
10.一種降低高溫噴嘴腐蝕強度的方法,其特征在于,該方法包括:通過權利要求1-9中任意一項所述的高溫噴嘴的噴口向氣化爐中噴射氣化原料和氧氣,并且通過設置在噴口外環面上的吹氣部件(10)上的孔連續吹出氣體。
11.根據權利要求10所述的方法,其中,通過所述吹氣部件(10)上的孔吹出的氣體的氣速為1-50m/s,氣體溫度為5-100℃,氣體壓力比氣化爐操作壓力高0.5-1.5MPa。
12.根據權利要求10所述的方法,其中,通過所述吹氣部件(10)上的孔吹出的氣體為二氧化碳、水蒸氣和惰性氣體中的至少一種,優選為二氧化碳。
13.根據權利要求10-12中任意一項所述的方法,其中,所述氣化原料為干煤粉或水煤漿。
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