[發(fā)明專利]一種微波活化過硫酸鹽噴淋誘導自由基的硫化氫脫除方法及系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710919047.1 | 申請日: | 2017-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN107715666B | 公開(公告)日: | 2020-01-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉楊先;楊威;王燕;王智化;張軍 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | B01D53/52 | 分類號: | B01D53/52;B01D53/73;B01D53/75;B01D53/76;B01D53/78;B01D53/79;C05C1/00;C05C3/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 212013 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硫化氫 硫酸溶液 磁力分離 過硫酸鹽 微波活化 蒸發(fā)結晶 噴淋 脫除 催化劑 高溫煙氣余熱 硫酸根自由基 固態(tài)硫酸銨 硫化氫脫除 硫酸銨溶液 資源化利用 磁性分離 市場應用 煙氣凈化 反應器 分離塔 排放源 中和塔 自由基 煙道 除塵 活化 煙氣 羥基 臭氧 硫酸 冷卻 微波 誘導 肥料 回收 再生 吸收 | ||
1.一種微波活化過硫酸鹽噴淋誘導自由基的硫化氫脫除系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)包括除塵器(3)、冷卻器(4)、催化劑磁力分離塔(9)、臭氧發(fā)生器(5)、微波噴淋反應器(6)、煙道(2)和風機(7);其中,所述除塵器(3)、冷卻器(4)、微波噴淋反應器(6)和風機(7)通過煙道(2)依次串聯(lián),臭氧發(fā)生器(5)位于冷卻器(4)與微波噴淋反應器(6)中間,通過煙道(2)連接;
所述的微波噴淋反應器(6)包括霧化噴嘴(603)﹑微波發(fā)射器(605)﹑微波噴淋反應區(qū)﹑鼓泡器(609)﹑煙氣入口(607)﹑煙氣出口(612)﹑補充溶液入口(606)﹑反應溶液出口(613)﹑溶液儲存區(qū)(608)﹑溶液出口(614)、循環(huán)泵(610)﹑除霧器(611)﹑溶液泵(601)以及溶液/催化劑補充塔(602);
所述微波噴淋反應區(qū)由兩層以上霧化噴嘴(603)構成的噴淋層和微波發(fā)射器(605)組成,所述霧化噴嘴(603)與微波發(fā)射器(605)依次間隔布置;所述溶液儲存區(qū)(608)位于微波噴淋反應器(6)的底部,溶液儲存區(qū)(608)設置有鼓泡器(609)和溶液出口(614),所述煙氣入口(607)與鼓泡器(609)連通;所述溶液出口(614)通過循環(huán)泵(610)與霧化噴嘴(603)連通;
所述微波噴淋反應器(6)的底部設有補充溶液入口(606),所述補充溶液入口(606)與通過溶液泵(601)與溶液/催化劑補充塔(602)連通;所述微波噴淋反應器(6)的頂部還設置有除霧器(611),所述除霧器(611)的頂面上設置有煙氣出口(612);所述反應溶液出口(613)與催化劑磁力分離塔(9)連接。
2.根據(jù)權利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)還包括后處理系統(tǒng),所述后處理系統(tǒng)包括依次串聯(lián)的中和塔(10)和蒸發(fā)結晶分離塔(11);所述中和塔(10)還與催化劑磁力分離塔連接;
所述除塵器(3)與冷卻器(4)之間的煙道(2)上設置有煙氣余熱利用系統(tǒng)(12),利用煙氣的余熱為蒸發(fā)結晶分離塔(11)提供熱量。
3.根據(jù)權利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述臭氧發(fā)生器(5)與微波噴淋反應器(6)的距離為0.3m-12m之間。
4.根據(jù)權利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述微波噴淋反應器(6)的橫向截面為圓形或矩形,微波噴淋反應器(6)的最佳高度H在0.2m-25m之間。
5.根據(jù)權利要求4所述的系統(tǒng),其特征在于,當微波噴淋反應器(6)橫向截面為圓形時,所述霧化噴嘴(603)與微波發(fā)射器(605)采用依次相鄰的同心圓布置;霧化噴嘴(603)與微波發(fā)射器(605)間隔交叉布置在中心線上,且相鄰兩條中心線之間的夾角n位于10度-45度之間;相鄰兩個霧化噴嘴(603)之間的間距與相鄰兩個微波發(fā)射器(605)之間的間距相同為f,f的最佳間距位于0.1m-2.5m之間;所述微波發(fā)射器(605)位于同心圓最外層,微波發(fā)射器(605)與微波噴淋反應器壁面(604)的間距為0.5f。
6.根據(jù)權利要求4所述的系統(tǒng),其特征在于,微波噴淋反應器(6)橫向截面為矩形時,所述霧化噴嘴(603)與微波發(fā)射器(605)依次間隔布置;所述微波反射器(605)之間的間距為g,霧化噴嘴(603)之間的間距的最佳間距為2g,g位于0.1m-2.5m之間;所述微波發(fā)射器(605)與微波噴淋反應器壁面(604)的間距為0.5g。
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