[發(fā)明專利]一種用于8寸晶圓片的快速清洗槽

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710893562.7
• 申請(qǐng)日: 2017-09-28
• 公開（公告）號(hào): CN107546158A
• 公開（公告）日: 2018-01-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周文華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海強(qiáng)華實(shí)業(yè)有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 北京力量專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙)11504
• 代理人: 宋林清

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種用于8寸晶圓片的快速清洗槽。

背景技術(shù)

公開號(hào)為CN1567538A的專利文件，提到“在半導(dǎo)體制造過程中，晶圓的潔凈度對(duì)制造的合格率有莫大的影響。有鑒于此，通常必須在每一道半導(dǎo)體工藝進(jìn)行之前，以及工藝完成之后，另外再進(jìn)行一道晶圓洗凈的步驟，借以清除附著在晶圓上的材料微粒和化學(xué)殘留物等。目前，在晶圓洗凈的程序中，快速排水清洗法是相當(dāng)常見的一種晶圓清洗方式。所謂快速排水清洗法是先將放在晶圓座(Wafer Stand)上的晶圓完全浸泡于快速排水清洗槽里的去離子水中，再快速地排除快速排水清洗槽中的去離子水，在此同時(shí)，對(duì)晶圓座上的晶圓噴灑去離子水，以沖洗晶圓。通常，在多槽式(Multi-bath)的濕式機(jī)臺(tái)(Wet Bench)上，晶圓于每一化學(xué)液槽程序后，一般會(huì)緊接著快速排水清洗槽步驟，借以去除上一程序中，沾附于晶圓上的工藝微粒和化學(xué)殘留物”。在上述環(huán)節(jié)中，快速排水清洗槽(Quick Dump Rinse Tank；QDR Tank)是一種關(guān)鍵設(shè)備。

如圖1所示，是一種現(xiàn)有的快速清洗槽。實(shí)際清洗時(shí)，8寸晶圓片放置在晶圓片載具上，在晶圓片載具的下方設(shè)置有噴淋管和氮?dú)夤?，水柱從噴淋管噴射出來，由于氮?dú)夤車姵龅牡獨(dú)獾淖饔茫谇逑床蹆?nèi)形成了純水渦流氣泡，在渦流氣泡的作用下，晶圓片被清洗干凈。

但是，這種方法也有弊端。由于渦流運(yùn)動(dòng)不夠穩(wěn)定，也難以控制，因此，對(duì)于晶圓片的清洗力度只能依賴經(jīng)驗(yàn)和估計(jì)，難以精確控制清洗效果。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種用于8寸晶圓片的快速清洗槽，目的在于解決現(xiàn)有的快速清洗槽在清洗晶圓片時(shí)，清洗力度難以精確控制的問題。

一種用于8寸晶圓片的快速清洗槽，8寸晶圓片被放置在晶圓片載具內(nèi)，當(dāng)所述晶圓片載具放置在所述快速清洗槽內(nèi)時(shí)，在對(duì)應(yīng)所述晶圓片載具內(nèi)晶圓片的兩側(cè)設(shè)置有噴淋管，

所述噴淋管的角度設(shè)置使得當(dāng)水柱從噴淋管噴出時(shí)，水柱直接噴射到晶圓片的表面。

在所述晶圓片載具兩側(cè)設(shè)置的噴淋管的角度設(shè)置是對(duì)稱的，使得兩側(cè)噴淋管噴射到晶圓片表面的水柱呈現(xiàn)為對(duì)稱狀態(tài)。

在所述晶圓片載具兩側(cè)沿著晶圓片載具方向設(shè)置的噴淋管的數(shù)量對(duì)應(yīng)在所述晶圓片載具內(nèi)裝載的晶圓片的數(shù)量，保證每對(duì)噴淋管對(duì)應(yīng)一片晶圓片。

所述晶圓片載具安放在所述快速清洗槽底部的立柱上。

本發(fā)明改變了現(xiàn)有的清洗方式設(shè)計(jì)，僅設(shè)置快速清洗槽兩側(cè)噴淋管，清洗水柱直接噴射到晶圓片表面，實(shí)現(xiàn)了對(duì)晶圓片清洗力度的精確控制。

附圖說明

通過參考附圖閱讀下文的詳細(xì)描述，本發(fā)明示例性實(shí)施方式的上述以及其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)將變得易于理解。在附圖中，以示例性而非限制性的方式示出了本發(fā)明的若干實(shí)施方式，其中：

圖1現(xiàn)有技術(shù)中快速清洗槽的一種清洗方式示意圖。

圖2是圖1的清洗槽的側(cè)面示意圖。

圖3是本發(fā)明的清洗槽的清洗方式示意圖。

1——8寸晶圓片，2——晶圓片載具，3——清洗槽，4——噴淋管，5——氮?dú)夤埽?——水柱。

具體實(shí)施方式

如圖3所示，本發(fā)明的快速清洗槽，8寸晶圓片被放置在晶圓片載具內(nèi)，當(dāng)所述晶圓片載具放置在所述快速清洗槽內(nèi)時(shí)，在對(duì)應(yīng)所述晶圓片載具內(nèi)晶圓片的兩側(cè)設(shè)置有噴淋管。

所述噴淋管的角度設(shè)置使得當(dāng)水柱從噴淋管噴出時(shí)，水柱直接噴射到晶圓片的表面。

在所述晶圓片載具兩側(cè)設(shè)置的噴淋管的角度設(shè)置是對(duì)稱的，使得兩側(cè)噴淋管噴射到晶圓片表面的水柱呈現(xiàn)為對(duì)稱狀態(tài)。

在所述晶圓片載具兩側(cè)沿著晶圓片載具方向設(shè)置的噴淋管的數(shù)量對(duì)應(yīng)在所述晶圓片載具內(nèi)裝載的晶圓片的數(shù)量，保證每對(duì)噴淋管對(duì)應(yīng)一片晶圓片。

所述晶圓片載具安放在所述快速清洗槽底部的立柱上。

值得說明的是，雖然前述內(nèi)容已經(jīng)參考若干具體實(shí)施方式描述了本發(fā)明創(chuàng)造的精神和原理，但是應(yīng)該理解，本發(fā)明并不限于所公開的具體實(shí)施方式，對(duì)各方面的劃分也不意味著這些方面中的特征不能組合，這種劃分僅是為了表述的方便。本發(fā)明旨在涵蓋所附權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)所包括的各種修改和等同布置。