[發明專利]一種指紋顯現方法及指紋顯現系統有效
| 申請號： | 201710888373.0 | 申請日： | 2017-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN107704815B | 公開（公告）日： | 2020-05-08 |
| 發明（設計）人： | 鄭長彬;邵俊峰;王春銳;王化龍;王挺峰;曹立華 | 申請（專利權）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | G06K9/00 | 分類號： | G06K9/00;C09K11/77 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 駱宗力;王寶筠 |
| 地址： | 130033 吉林省長春*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 指紋 顯現 方法 系統 | ||
1.一種指紋顯現方法，其特征在于，基于紅外激發寬帶黑體輻射發光材料實現，所述指紋顯現方法包括：
獲取黑體輻射發光材料，所述黑體輻射發光材料為預設陽離子的陽離子百分含量為預設百分比的稀土氧化物材料，所述預設陽離子為在預設功率且預設波長的紅外光激發下能夠產生黑體輻射的稀土元素的陽離子；
利用所述黑體輻射發光材料覆蓋待成像載體上的待顯示指紋；
利用預設功率且預設波長的紅外激光掃描照射所述待顯示指紋，以使所述待顯示指紋表面覆蓋的黑體輻射發光材料發出黑體輻射而使所述待顯示指紋顯現；
所述預設百分比的取值范圍為20％-100％；
所述預設陽離子為Yb3+或Sm3+或Ce4+；
所述獲取黑體輻射發光材料包括：
將預設稀土氧化物加入80℃的過量稀硝酸中，持續攪拌，直至獲得澄清溶液；
向所述澄清溶液中加入檸檬酸，持續攪拌，直至加入的檸檬酸完全溶解，加入的檸檬酸與預設稀土氧化物的物質的量之比為4:1；
將加入檸檬酸的澄清溶液的pH值調整為6.0；
將調整pH值后的澄清溶液在120℃的條件下烘干12h，獲得黑色的干凝膠；
將獲得的干凝膠在800℃下燒結2h后冷卻至室溫，獲得所述黑體輻射發光材料。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，當所述預設陽離子為Yb3+，且所述預設百分比為100％時，所述預設功率的取值大于或等于10MW/cm2。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用預設功率且預設波長紅外激光掃描照射所述待顯示指紋包括：
采用預設功率且波長為980nm±5nm的紅外激光聚焦成掃描線；
利用所述掃描線逐行照射所述待顯示指紋。
5.一種指紋顯現系統，其特征在于，用于使待成像載體上的待顯示指紋顯現，所述待顯示指紋表面覆蓋有黑體輻射發光材料，所述黑體輻射發光材料為預設陽離子的陽離子百分含量為預設百分比的稀土氧化物材料，所述預設百分比的取值范圍為20％-100％，所述指紋顯現系統包括：紅外激光器和第一光學元件模塊；其中，
所述紅外激光器用于發射預設功率且預設波長的紅外激光；
所述第一光學元件模塊用于對所述紅外激光進行擴束、聚焦和反射處理后照射在所述待顯示指紋上，以使所述待顯示指紋表面覆蓋的黑體輻射發光材料發出黑體輻射而使所述待顯示指紋顯現；
所述預設百分比的取值范圍為20％-100％；
所述預設陽離子為Yb3+或Sm3+或Ce4+；
獲取黑體輻射發光材料包括：
將預設稀土氧化物加入80℃的過量稀硝酸中，持續攪拌，直至獲得澄清溶液；
向所述澄清溶液中加入檸檬酸，持續攪拌，直至加入的檸檬酸完全溶解，加入的檸檬酸與預設稀土氧化物的物質的量之比為4:1；
將加入檸檬酸的澄清溶液的pH值調整為6.0；
將調整pH值后的澄清溶液在120℃的條件下烘干12h，獲得黑色的干凝膠；
將獲得的干凝膠在800℃下燒結2h后冷卻至室溫，獲得所述黑體輻射發光材料。
6.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，還包括：濾光片、第二光學模塊、線陣成像模塊和圖像處理模塊；其中，
所述濾光片用于對所述黑體輻射發光材料發出的黑體輻射進行濾光處理；
所述第二光學模塊用于將濾光處理后的黑體輻射傳送給所述線陣成像模塊；
所述線陣成像模塊用于將接收的黑體輻射轉換為待顯示指紋的圖像信息并傳送給所述圖像處理模塊；
所述圖像處理模塊用于根據獲取的圖像信息對待顯示指紋進行成像。
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