[發(fā)明專利]具有抗菌生物活性MoO3-SiO2納米晶復合涂層的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710864169.5
• 申請日: 2017-09-22
• 公開（公告）號: CN108048807B
• 公開（公告）日: 2019-07-30
• 發(fā)明（設計）人: 徐江;孫騰騰;姚凡
• 申請（專利權）人: 南京航空航天大學
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/08;C23C14/10
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務所 32237
• 代理人: 賀翔;楊文晰

1.一種具有抗菌生物活性MoO₃-SiO₂納米晶復合涂層的制備方法，其特征在于，具體步驟如下：

a.首先利用雙陰極等離子濺射Mo-Si層，工藝參數(shù)如下：

靶材電壓：800V~1000V；

工件電壓：250V~350V；

靶材與工件間距：10mm~20mm；

工作氣壓：25Pa~40Pa；

沉積溫度：750℃~950℃；

沉積時間：3.0h~5.0h；

b.其次進行等離子氧化，工藝參數(shù)如下：

氧化電壓：650V~750V；

工件電壓：250V~350V；

氧化溫度：450℃~600℃；

工作氣壓：25Pa~40Pa；

氧分壓：0.1Pa~1Pa；

氧化時間：1.0h~2.0h。

2.根據(jù)權利要求1所述具有抗菌生物活性MoO₃-SiO₂納米晶復合涂層的制備方法，其特征在于，所述靶材為等摩爾質(zhì)量混合的Mo-Si靶。

3.根據(jù)權利要求2所述具有抗菌生物活性MoO₃-SiO₂納米晶復合涂層的制備方法，其特征在于，所述工件為316L不銹鋼。

4.根據(jù)權利要求1所述具有抗菌生物活性MoO₃-SiO₂納米晶復合涂層的制備方法，其特征在于，步驟a雙陰極等離子濺射的工作氣壓是指氬氣氣壓。

5.根據(jù)權利要求4所述具有抗菌生物活性MoO₃-SiO₂納米晶復合涂層的制備方法，其特征在于，步驟b等離子氧化工作氣壓是指氬氣和氧氣的混合氣壓，氬氣和氧氣的體積比為20:1。

6.根據(jù)權利要求1-5之一所述具有抗菌生物活性MoO₃-SiO₂納米晶復合涂層的制備方法，其特征在于，步驟a雙陰極等離子濺射工藝參數(shù)為：靶材電壓：950V，工件電壓：350V，靶材與工件間距：15mm，工作氣壓：35Pa，沉積溫度：950℃，沉積時間：4h；步驟b等離子氧化工藝參數(shù)為：氧化電壓：700V，工件電壓300V，氧化溫度：600℃，工作氣壓：35Pa，氧分壓：1Pa，氧化時間：1.5h。