[發(fā)明專利]一種拋光盤基座、拋光盤、拋光機以及最終拋光方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710829117.4 | 申請日： | 2017-09-14 |
| 公開（公告）號： | CN109500716A | 公開（公告）日： | 2019-03-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉源;汪燕 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海新昇半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號： | B24B29/02 | 分類號： | B24B29/02;B24B41/04 |
| 代理公司： | 北京市磐華律師事務(wù)所 11336 | 代理人： | 高偉;張建 |
| 地址： | 201306 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 拋光盤 最終拋光 拋光機 氣流通道 內(nèi)環(huán)部 平坦度 外環(huán)部 第二表面 第一表面 同心設(shè)置 后邊緣 晶圓 | ||
1.一種拋光盤基座，其特征在于，包括：基體、在所述基體的第一表面上同心設(shè)置的內(nèi)環(huán)部和外環(huán)部，以及在所述基體的第二表面上設(shè)置的內(nèi)環(huán)部氣流通道和外環(huán)部氣流通道。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光盤基座，其特征在于，所述內(nèi)環(huán)部氣流通道設(shè)置在所述基體的中心位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光盤基座，其特征在于，所述外環(huán)部氣流通道設(shè)置在所述內(nèi)環(huán)部和外環(huán)部之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的拋光盤基座，其特征在于，所述外環(huán)部氣流通道在周向上對稱設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的拋光盤基座，其特征在于，所述外環(huán)部氣流通道的數(shù)量為4個。
6.一種拋光盤，其特征在于，包括：權(quán)利要求1-5中的任意一項所述的拋光盤基座，以及依次設(shè)置在所述拋光盤基座之上的用于支撐晶圓的背襯墊和用于夾持晶圓的載具環(huán)，
其中，所述拋光盤基座和所述背襯墊圍成腔室，且所述內(nèi)環(huán)部將所述腔體分隔為內(nèi)腔室和外腔室。
7.一種拋光機，其特征在于，包括：拋光墊，以及設(shè)置在所述在拋光墊之上的如權(quán)利要求6所述的拋光盤。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的拋光機，其特征在于，所述拋光盤的數(shù)量為三個。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的拋光機，其特征在于，三個所述拋光盤對稱分布。
10.一種最終拋光方法，用于半導(dǎo)體晶圓的最終拋光，其特征在于，包括：
使用權(quán)利要求6所述的拋光盤裝載待拋光晶圓，其中所述內(nèi)腔室和外腔室呈真空狀態(tài)；
向所述內(nèi)腔室通入壓縮干燥空氣以施加壓力，且使所述外腔室繼續(xù)保持真空狀態(tài)，然后在拋光墊上執(zhí)行第一拋光；
使所述內(nèi)腔室呈真空狀態(tài)，且向所述外腔室通入壓縮干燥空氣，然后在拋光墊上執(zhí)行第二拋光。
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