[發(fā)明專利]光學(xué)放大系統(tǒng)及其控制方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710826866.1
• 申請(qǐng)日: 2017-09-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107834355A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-03-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 本田昌寬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 住友電工光電子器件創(chuàng)新株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01S5/022
• 分類號(hào): H01S5/022;H01S5/026
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112
• 代理人: 顧紅霞,何勝勇

1.一種光學(xué)放大系統(tǒng)，包括：

熱電冷卻器；

半導(dǎo)體激光二極管，其安裝在所述熱電冷卻器上，決定于受所述熱電冷卻器控制的所述半導(dǎo)體激光二極管的溫度，所述半導(dǎo)體激光二極管產(chǎn)生具有設(shè)計(jì)波長(zhǎng)的調(diào)制光學(xué)信號(hào)；以及

半導(dǎo)體光學(xué)放大器，其放大從所述半導(dǎo)體激光二極管輸出的所述調(diào)制光學(xué)信號(hào)，

其中，所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器的溫度高于所述半導(dǎo)體激光二極管的所述溫度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)放大系統(tǒng)，還包括：

另一熱電冷卻器，其上承載所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器，

其中，所述另一熱電冷卻器設(shè)定所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器的所述溫度高于所述半導(dǎo)體激光二極管的所述溫度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)放大系統(tǒng)，

其中，所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器被供應(yīng)使所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器的所述溫度升高的驅(qū)動(dòng)電流。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)放大系統(tǒng)，

其中，所述半導(dǎo)體激光二極管包括產(chǎn)生具有所述設(shè)計(jì)波長(zhǎng)的激光的增益區(qū)以及調(diào)制所述增益區(qū)產(chǎn)生的所述激光的調(diào)制區(qū)，

所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器集成有所述半導(dǎo)體激光二極管并且被置于所述調(diào)制區(qū)前方，所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器和所述增益區(qū)將所述調(diào)制區(qū)夾在中間，并且

所述增益區(qū)和所述調(diào)制區(qū)安裝在所述熱電冷卻器上，但是所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器從所述熱電冷卻器懸伸出來(lái)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)放大系統(tǒng)，

其中，所述半導(dǎo)體激光二極管在所述調(diào)制區(qū)與所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器之間還集成有波導(dǎo)區(qū)，所述波導(dǎo)區(qū)的一部分與所述熱電冷卻器重疊，但是所述波導(dǎo)區(qū)的其余部分從所述熱電冷卻器懸伸出來(lái)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)放大系統(tǒng)，還包括：

另一熱電冷卻器，其承載所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器和所述波導(dǎo)區(qū)的所述其余部分的另一個(gè)部分，

其中，所述另一熱電冷卻器設(shè)定所述半導(dǎo)體光學(xué)放大器的所述溫度高于所述半導(dǎo)體激光二極管的所述增益區(qū)和所述調(diào)制區(qū)的所述溫度。