[發明專利]基于光源互強度函數分解的光學成像快速計算方法

在審

• 申請號: 201710820261.1
• 申請日: 2017-09-13
• 公開（公告）號: CN107479335A
• 公開（公告）日: 2017-12-15
• 發明（設計）人: 貢頂;沈忱;崔紹春;毛智彪
• 申請（專利權）人: 蘇州珂晶達電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙)11350
• 代理人: 湯東鳳

1.一種基于光源互強度函數分解的光學成像快速計算方法，其特征在于：其包括以下步驟，

步驟S101：獲取成像系統的光源函數及光瞳函數

步驟S102：將所述光源函數投影到頻域上的一組正交基函數上；

步驟S103：求解空間域上光源互強度函數對應基函數的投影系數a_pq,st；

步驟S104：由投影系數α_pq,st建立對稱正定的投影矩陣A＝[α_pq,st]，并進行特征向量分解A＝UU^*；

步驟S105：基于所述投影矩陣A對光源互強度函數進行分離變量，并建立空間域上的交叉傳遞函數的核函數

步驟S106：計算核函數與掩膜板圖形的卷積，獲得像平面上的曝光圖案

2.如權利要求1所述的基于光源互強度函數分解的光學成像快速計算方法，其特征在于：所述步驟S102中，包括以下步驟，

1)在頻域上建立一組正交基函數

2)將光源函數用頻域上的正交基函數的線性組合描述出來；

3)建立頻域上的正交基函數對應到空間域上的正交基函數

3.如權利要求2所述的基于光源互強度函數分解的光學成像快速計算方法，其特征在于：所述頻域上的正交基函數為Zernike多項式，所述Zernike多項式的表達式為

其中，為多項式的方位角，ρ為徑向距離，且0≤ρ≤1。

4.如權利要求2所述的基于光源互強度函數分解的光學成像快速計算方法，其特征在于：所述頻域上的正交基函數與所述空間域上的正交基函數為一對傅立葉變換對。

5.如權利要求1所述的基于光源互強度函數分解的光學成像快速計算方法，其特征在于：所述頻域上的光源函數的表達式為

其中，為在正交基函數上的投影系數。

6.如權利要求2所述的基于光源互強度函數分解的光學成像快速計算方法，其特征在于：所述步驟S103中，所述投影系數α_pq,st的表達式為

αpq,st=1N(zpq*(r→1)zst(r→2))∫∫∫∫j(r→1-r→2)zpq*(r→1)zst(r→2)dr→1dr→2]]>

其中，為基函數的模，p、q、s、t均為正交基函數的整數階。