[發明專利]一種廉價高可見光活性的光電化學防腐涂料及涂層工藝

在審

• 申請號: 201710815237.9
• 申請日: 2017-09-12
• 公開（公告）號: CN108976847A
• 公開（公告）日: 2018-12-11
• 發明（設計）人: 陳殷;侯乾坤;李倩倩
• 申請（專利權）人: 中南大學
• 主分類號: C09D1/00
• 分類號: C09D1/00;C09D5/08;B05D3/02;B05D7/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可見光活性的光電化學防腐涂層，其特征在于其主要成分包括兩類：

a.氮化碳材料或碳化氮前驅體材料。

b.半導體金屬氧化物前驅體。

2.如權利要求1所述，氮化碳材料為：三聚氰胺、氨基腈、尿素等前驅體(可以加入摻雜改性劑)高溫縮聚后的產物經過進一步的加工得到可在溶液中穩定分散的氮化碳材料。碳化氮前驅體材料為：三聚氰胺、尿素、氨基腈等可以通過熱縮聚形成氮化碳材料的簡單化合物原料。

3.如權利要求1所述，半導體金屬氧化物前驅體為：Ti，Zn，Sn，Al的烷氧基化合物，乙酰丙酮絡合物或其它在水解或加熱條件下可以分解轉化為相應金屬氧化物的化合物原料。

4.如權利要求1所述，該涂層材料中氮化碳與半導體金屬氧化物的質量比為3∶1-1∶4，通過使用氮化碳材料或碳化氮前驅體材料及半導體金屬氧化物前驅體配制成相應的醇類或其它溶劑的溶液，從而在金屬表面進行涂布，所得涂層中光活性材料百分含量為10％-75％。

5.一種可見光活性的光電化學防腐涂層的涂布工藝，其特征在于，通過浸涂、輥涂、熱噴涂、旋涂等工藝將如權利要求4中涂料均勻涂布金屬構件，然后對表面進行熱處理，使涂層材料在250-570℃條件下轉化為目標異質結涂層。

6.一種可見光活性的光電化學防腐涂層，其特征在于，在可見光照射下，該涂層可以有效降低金屬的腐蝕電位，金屬材料的電位降與光照時間成正比，在停止光照后，這一電位降還可以得到一定保持。