[發(fā)明專利]陣列基板、顯示面板及其驅(qū)動方法和顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710813442.1 | 申請日: | 2017-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN107505795B | 公開(公告)日: | 2020-05-15 |
| 發(fā)明(設計)人: | 席克瑞;崔婷婷;秦鋒 | 申請(專利權)人: | 武漢天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/167 | 分類號: | G02F1/167;G02F1/1685;G02F1/1362;G02F1/1333;G02F1/133;H01L27/12;G06F3/046 |
| 代理公司: | 北京晟睿智杰知識產(chǎn)權代理事務所(特殊普通合伙) 11603 | 代理人: | 于淼 |
| 地址: | 430074 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 顯示 面板 及其 驅(qū)動 方法 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括:
多條數(shù)據(jù)線,包括至少一條第一數(shù)據(jù)線和多條第二數(shù)據(jù)線;
多條掃描線,包括至少一條第一掃描線和多條第二掃描線,所述多條數(shù)據(jù)線和所述多條掃描線絕緣交叉限定多個像素;
至少一條第一磁感線和至少一條第二磁感線;
多個電磁觸控單元,包括至少一個第一電磁觸控單元和至少一個第二電磁觸控單元,所述第一電磁觸控單元包括所述第一數(shù)據(jù)線、所述第一磁感線以及連接在所述第一數(shù)據(jù)線和所述第一磁感線之間的第一連接線,所述數(shù)據(jù)線和所述第一磁感線沿第一方向延伸,所述第二電磁觸控單元包括所述第一掃描線、所述第二磁感線以及連接在所述第一掃描線和所述第二磁感線之間的第二連接線,所述掃描線和所述第二磁感線沿第二方向延伸,所述第一方向與所述第二方向相交。
2.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述多個電磁觸控單元包括多個所述第一電磁觸控單元和多個所述第二電磁觸控單元;
任意相鄰的兩個所述第一電磁觸控單元中,一個所述第一電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域與另一個所述第一電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域不交疊;
任意相鄰的兩個所述第二電磁觸控單元中,一個所述第二電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域與另一個所述第二電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域不交疊。
3.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述多個電磁觸控單元包括多個所述第一電磁觸控單元;
任意相鄰的兩個所述第一電磁觸控單元中,一個所述第一電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域與另一個所述第一電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域部分交疊。
4.根據(jù)權利要求3所述的陣列基板,其特征在于,各交疊區(qū)域在所述第二方向上的寬度相同。
5.根據(jù)權利要求3所述的陣列基板,其特征在于,任意相鄰的三個所述第一電磁觸控單元中,一個所述第一電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域與另兩個所述第一電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域都部分交疊。
6.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述多個電磁觸控單元包括多個所述第二電磁觸控單元;
任意相鄰的兩個所述第二電磁觸控單元中,一個所述第二電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域與另一個所述第二電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域部分交疊。
7.根據(jù)權利要求6所述的陣列基板,其特征在于,各交疊區(qū)域在所述第一方向上的寬度相同。
8.根據(jù)權利要求6所述的陣列基板,其特征在于,任意相鄰的三個所述第二電磁觸控單元中,一個所述第二電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域與另兩個所述第二電磁觸控單元圍繞的感測區(qū)域都部分交疊。
9.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,在同一個所述第一電磁觸控單元中,所述第一數(shù)據(jù)線和所述第一磁感線在所述第二方向上至少間隔一個所述像素;
在同一個所述第二電磁觸控單元中,所述第一掃描線和所述第二磁感線在所述第一方向上至少間隔一個所述像素。
10.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述數(shù)據(jù)線和所述第一磁感線同層設置;
所述掃描線和所述第二磁感線同層設置。
11.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板還包括第一集成電路和第二集成電路;
所述數(shù)據(jù)線與所述第一集成電路的數(shù)據(jù)端子電連接,所述第一磁感線與所述第一集成電路的第一磁感端子電連接;
所述掃描線與所述第二集成電路的掃描端子電連接,所述第二磁感線與所述第二集成電路的第二磁感端子電連接。
12.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板還包括沿第一方向延伸的多條第一虛設導線和沿第二方向延伸的多條第二虛設導線;
任意一列所述像素內(nèi)均設置有一條所述第一虛設導線或所述第一磁感線,任意一行所述像素內(nèi)均設置有一條所述第二虛設導線或所述第二磁感線。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結構中的





