[發明專利]一種光敏膠微凝裝置及方法

有效

• 申請號: 201710776022.0
• 申請日: 2017-08-31
• 公開（公告）號: CN109420593B
• 公開（公告）日: 2021-08-13
• 發明（設計）人: 晏學飛;趙俊;韓傳友;張金貴
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: B05C11/10
• 分類號: B05C11/10
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

本發明公開了一種光敏膠微凝裝置及方法，包括光敏膠容器、控制模塊、設于所述光敏膠容器上且與所述控制模塊連接的監測模塊、抽排模塊和加壓模塊。通過控制模塊控制監測模塊中的加熱模塊和抽排模塊進行加熱和抽排，使光敏膠中的溶劑揮發和排出，并通過監測模塊中的粘度監測模塊進行實時監測以達到指定粘度，實現了利用特定初始粘度的光敏膠獲得相對較大的厚度范圍，通過本裝置處理后的光敏膠只需要進行一次旋涂，使用少量的光敏膠即可實現目標膜厚，提高了旋涂的產率，減少了光敏膠的用量；同時，有效防止多次旋涂的某一層旋涂異常導致的失效，避免了多次旋涂之間點膠時產生氣泡，提高了點膠的成型效率和質量，降低了生產成本。

技術領域

本發明涉及光刻技術領域，具體涉及一種光敏膠微凝裝置及方法。

背景技術

光刻是將一種介質中的圖案轉印到另一種介質中的圖案轉印技術。通常借助光敏材料(即光敏膠)有選擇性地實現圖形的轉印，通過包含圖案的中介掩模有選擇性地將其曝光。光敏膠的特性(包括正性和負性)，使得光敏膠的曝光部分(或者未曝光部分)成分發生改變，變成可溶于顯影液的材料，然后通過顯影液溶解可溶部分，進而形成圖案化的光敏膠。

在光刻領域的晶圓旋涂工藝中，對于一款固定的光敏膠，若要在基片1上獲得更厚的光敏膠厚度往往通過多次旋涂來實現，如圖1a所示，包括第一層21、第二層22、第三層23至第N層24。由于第一層21旋涂表面有一定粗糙度或缺陷，導致第二層22旋涂后與第一層21有一定的交錯，如圖1b所示，如果第一層21表面粗糙度或缺陷過大，將會降低最終的光敏膠性能，影響最終的工藝穩定性。

此外，多次旋涂增加了旋涂次數，此過程經歷旋涂、烘烤、再旋涂、再烘烤……，過程反復，嚴重影響產率，并且增加了光敏膠用量，提高了生產成本。

在半導體行業的點膠領域中，粘度較低的光敏膠在強力擠壓的高剪切過程中造成樹脂分子降解、產生氣泡，并且后續需要進行較長時間的烘烤或其他工藝，成型時間較長，產率較低。

發明內容

本發明提供了一種光敏膠微凝裝置及方法，以解決現有技術中存在的點膠時產生氣泡導致光敏膠性能低、工藝穩定性差以及成型時間長、產率低的問題。

為了解決上述技術問題，本發明的技術方案是：一種光敏膠微凝裝置，包括光敏膠容器、控制模塊、設于所述光敏膠容器上且與所述控制模塊連接的監測模塊、抽排模塊和加壓模塊。

進一步的，所述監測模塊包括分別與所述控制模塊連接的溫度監測模塊、粘度監測模塊、質保監測模塊和液位監測模塊。

進一步的，所述溫度監測模塊包括加熱模塊和冷卻模塊。

進一步的，所述加熱模塊位于所述光敏膠容器底部，包括升溫單元和第一溫度傳感器。

進一步的，所述冷卻模塊圍設于所述光敏膠容器外周，包括降溫單元和第二溫度傳感器。

進一步的，所述加熱模塊和冷卻模塊均圍設于所述光敏膠容器外周，所述加熱模塊包括升溫單元和第一溫度傳感器，所述冷卻模塊包括降溫單元和第二溫度傳感器。

進一步的，所述抽排模塊位于所述光敏膠容器頂部，包括抽排電機和抽排管路。

進一步的，所述加壓模塊設于所述光敏膠容器頂部。

進一步的，所述粘度監測模塊設于所述光敏膠容器的側面，包括粘度監測傳感器和反饋單元。

進一步的，所述質保監測模塊設于所述光敏膠容器的側面。

進一步的，所述液位監測模塊包括液位監測傳感器和提示器。

進一步的，所述液位監測模塊設有兩個，分別與光敏膠容器的上下兩端對應。

本發明還提供一種光敏膠微凝方法，包括以下步驟：