[發明專利]氣相沉積爐的均勻供氣裝置及氣相沉積爐

有效

• 申請號: 201710773743.6
• 申請日: 2017-08-31
• 公開（公告）號: CN109423623B
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發明（設計）人: 鞠濤;張立國;李哲;范亞明;張澤洪;張寶順
• 申請（專利權）人: 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/458
• 代理公司: 南京艾普利德知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32297
• 代理人: 陸明耀

1.氣相沉積爐的均勻供氣裝置，其特征在于：包括至少一條呈T字形的勻氣管路（1201），所述勻氣管路（1201）上的一組出氣孔（1205）的朝向與反應氣體的上升方向相反且背向工件；所述勻氣管路（1201）包括氣體導入管（1202），所述氣體導入管（1202）的一端連接有三通過渡接頭（1203），所述三通過渡接頭（1203）共軸的兩個接口分別連接一勻氣管（1204），所述勻氣管（1204）上設置所述出氣孔(1205)；所述勻氣管路（1201）為至少兩條且平行設置，每條勻氣管路（1201）與一個用于放置工件并驅動工件自轉的驅動機構對應，每條所述勻氣管路（1201）分別連接供氣管路（170），所述供氣管路（170）至少包括液態反應源供應管路（1701）以及載氣供應管路（1702），它們均連接混合裝置（1703）且通過所述混合裝置（1703）將液態反應源氣化并與載氣混合，所述混合裝置（1703）連接并聯的供氣支路（1704）及穩壓管路（1705），所述供氣支路（1704）包括一組并聯的且分別與一條勻氣管路（1201）連接的供氣分路；每個供氣分路單獨調整與其連接的勻氣管路（1201）的反應氣體供應量。

2.根據權利要求1所述的氣相沉積爐的均勻供氣裝置，其特征在于：所述載氣供應管路（1702）包括并聯的氬氣供應支路和氫氣供應支路。

3.根據權利要求1所述的氣相沉積爐的均勻供氣裝置，其特征在于：所述供氣支路（1704）的外周設置有加熱帶（1706）。

4.根據權利要求1所述的氣相沉積爐的均勻供氣裝置，其特征在于：所述混合裝置是液體蒸發器控制系統。

5.根據權利要求1-4任一所述的氣相沉積爐的均勻供氣裝置，其特征在于：所述穩壓管路（1705）至少包括管道上依次設置的第一閥們、泄壓閥（C5）、第二閥門及抽氣泵。

6.氣相沉積爐，包括真空室（8），其特征在于：所述真空室（8）包括圓柱形的真空室主體（81）以及位于所述真空室主體（81）的兩個圓形開口處的密封門（82），所述真空室主體（81）的外圓周面連接支架（9），還包括權利要求1-5任一所述的均勻供氣裝置。

7.根據權利要求6所述的氣相沉積爐，其特征在于：所述勻氣管路（1201）的出氣孔（1205）均位于所述真空室（8）內的石墨氈材料的保溫箱（11）中。

8.根據權利要求6所述的氣相沉積爐，其特征在于：所述真空室（8）內設置有工件驅動組件（10），所述工件驅動組件（10）包括至少一對配合支撐并驅動工件自轉，且持續改變與工件接觸位置的第一轉盤（2）和第二轉盤（3），所述第一轉盤（2）和第二轉盤（3）的對數 與所述勻氣管路（1201）相同，且一對第一轉盤（2）和第二轉盤（3）位于一條勻氣管路（1201）上方。

9.根據權利要求8所述的氣相沉積爐，其特征在于：所述第一轉盤（2）和第二轉盤（3）相同且它們中的一個連接驅動其繞其中心軸自轉的驅動裝置，它們均包括至少一個內凹于它們的圓周面且寬度相同的卡槽（7），所述卡槽（7）包括具有深度差的淺槽區（71）和深槽區（72）。