[發明專利]一種預抽真空裝置有效
| 申請號: | 201710771338.0 | 申請日: | 2017-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN107385410B | 公開(公告)日: | 2019-07-05 |
| 發明(設計)人: | 張毅 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 排風口 玻璃基板 預抽真空 低溫泵 干泵 腔體 機臺 玻璃基板表面 長方形擋板 抽真空裝置 顯示器制造 大氣狀態 顆粒雜質 氣體湍流 真空濺射 正對位置 成膜 腔壁 | ||
本發明涉及顯示器制造領域的真空濺射機臺,在其預抽真空裝置中,玻璃基板放置于腔體中,所述腔體一側腔壁上設置有干泵排風口和低溫泵排風口,所述干泵排風口和所述低溫泵排風口正對位置均設置長方形擋板,在所述抽真空裝置進行大氣-真空-大氣狀態的切換過程中,保持氣流不直接作用與所述玻璃基板表面,減緩氣體湍流對所述玻璃基板造成的顆粒雜質、氣泡等不利影響,提高本工序的成膜品質。
技術領域
本發明涉及顯示器制造領域,尤其涉及真空濺射機臺。
背景技術
在顯示器制造領域中,真空濺射機臺是在高真空下利用物理磁控濺射原理在玻璃基板上沉積膜層的機臺,玻璃基板從機臺外部首先進入機臺預抽真空裝置,待預抽真空裝置從大氣狀態切換到真空狀態時,玻璃基板進入到濺射腔室,沉積膜層后玻璃基板送回預抽真空裝置,待預抽真空裝置從真空狀態切換到大氣狀態后,玻璃基板從機臺內排出。
由于預抽真空裝置在生產過程中處于大氣與真空狀態下轉換,預抽真空裝置顯得尤其重要,在實現大氣-真空-大氣的兩次轉換過程中,預抽真空裝置腔體內空氣流動方向、速度、玻璃基板表面湍流狀況等,都對濺射工序質量產生直接的影響。現有預抽真空裝置排氣口在腔室內壁,包括干泵和低溫泵的排氣口,排氣口正面無保護裝置,腔室從大氣向真空轉換時,有明顯湍流,當湍流從玻璃基板表面經過時,會在玻璃基板表面殘留顆粒或氣泡,對成膜品質會有影響;另一方面,在腔室從真空向大氣轉換時,從排氣口充入的氣體形成湍流直接從玻璃基板表面經過,氣體中的顆粒雜質同樣會對沉積膜層造成損害。
發明內容
本發明的目的在于提供一種結構簡單,可有效減緩玻璃基板表面湍流的預抽真空裝置,提供具體技術方案如下:
一種預抽真空裝置,包括腔壁,腔壁內放置玻璃基板,所述腔壁一側內壁同時設有干泵排氣口和低溫泵排氣口,所述干泵排氣口與所述玻璃基板之間設第一擋板,所述第一擋板與所述腔壁不接觸,所述第一擋板遮蓋所述干泵排氣口;所述低溫泵排氣口與所述玻璃基板之間設第二擋板,所述第二擋板與所述腔壁不接觸,所述第二擋板遮蓋所述低溫泵排氣口。
其中,所述第一擋板和所述第二擋板表面均采用光滑處理。
其中,所述第一擋板和所述第二擋板均為長方形,長方形中較長的一邊平行于所述玻璃基板的上平面。
其中,所述第一擋板和所述第二擋板均由螺栓連接于所述內壁上,所述螺栓位置靠近所述第一擋板和所述第二擋板的邊緣。
其中,所述第一擋板和所述第二擋板同時平行于所述腔壁。
其中,所述第一擋板和所述第二擋板均設置導引面,所述導引面一端與所述第一擋板或所述第二擋板連接,另一端向所述內壁的反方向延伸,所述導引面繞所述第一擋板或所述第二擋板邊緣連續設置。
其中,所述導引面截面為直面。
其中,所述導引面截面為圓弧面,所述圓弧面與所述第一擋板或所述第二擋板相切。
其中,所述第一擋板在正對所述干泵排氣口位置設平滑突起部,所述突起部最高點正對所述干泵排氣口中心;所述第二擋板在正對所述低溫泵排氣口位置設平滑突起部,所述突起部最高點正對所述低溫泵排氣口中心。
其中,所述第一擋板和所述第二擋板的材料均為不銹鋼。
本發明預抽真空裝置,通過所述第一擋板和所述第二擋板的設置,將所述干泵排風口和所述低溫泵排風口在大氣-真空-大氣的過程中抽-充的氣體進行了一定的引流,使得所述氣體沒有直接作用在所述玻璃基板上,有效減緩了在所述玻璃基板上形成的湍流,減少了顆粒雜質、氣化物等與玻璃基板的接觸,玻璃基板上殘留顆粒或氣泡的概率變小,在加入一系列改進方案后,湍流的發生被進一步減弱,甚至可達到基本消除的狀態,成膜品質得到提升。
附圖說明
圖1是本發明預抽真空裝置的俯視示意圖;
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