[發明專利]環拋中大尺寸修正盤表面形狀誤差的檢測方法

有效

• 申請號: 201710762731.3
• 申請日: 2017-08-30
• 公開（公告）號: CN107560585B
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發明（設計）人: 廖德鋒;周煉;趙世杰;謝瑞清;陳賢華;王健;許喬
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: G01B21/20
• 分類號: G01B21/20
• 代理公司: 成都希盛知識產權代理有限公司 51226
• 代理人: 蒲敏

1.環拋中大尺寸修正盤表面形狀誤差的檢測方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：1)采用位移傳感器以圓弧路徑檢測修正盤的表面形狀；2)采用直線度表橋(40)標定參考點相對于中心點的高度：選擇修正盤(26)表面的任一點作為參考點p，參考點與修正盤(26)中心的距離為d；采用跨度為2d的直線度表橋(40)檢測參考點相對于中心點的高度，檢測時直線度表橋(40)的中間探針位于中心點，兩端支點分別位于參考點及其對稱點，檢測結果即為參考點的實際形狀誤差，記為h₀；3)生成修正盤(26)的徑向輪廓。

2.如權利要求1所述的環拋中大尺寸修正盤表面形狀誤差的檢測方法，其特征在于，所述步驟1)為：吊起修正盤(26)使修正盤(26)與拋光盤(22)表面接近平行；將平板(30)放在修正盤(26)下方的拋光盤(22)表面，然后將位移傳感器(31)固定于平板(30)上，確保位移傳感器(31)的探測頭的檢測點指向修正盤(26)的中心，位移傳感器(31)檢測的距離數據通過數據線輸送至電腦；開啟拋光盤(22)的逆時針勻速旋轉運動，位移傳感器(31)隨拋光盤(22)一起勻速旋轉，待位移傳感器(31)進入修正盤(26)下方時開始記錄測得的探測頭與修正盤(26)的距離，位移傳感器(31)離開修正盤(26)下方時停止記錄距離數據，從而獲得圓弧路徑上位移傳感器(31)的探測頭相對于修正盤(26)的距離數據，拋光盤(22)的轉速記為ω(rad/s)，位移傳感器(31)的檢測采樣時間間隔記為t(s)，檢測點分別記為1,…,i,…,m，對應檢測結果記為h₁,…,h_i,…,h_m。

3.如權利要求2所述的環拋中大尺寸修正盤表面形狀誤差的檢測方法，其特征在于，所述位移傳感器(31)通過磁力表座固定于平板(30)上。

4.如權利要求1所述的環拋中大尺寸修正盤表面形狀誤差的檢測方法，其特征在于，所述步驟3)為：a)建立坐標系和分解誤差；b)分離Y方向的傾角誤差；c)分離X方向的傾角誤差。

5.如權利要求4所述的環拋中大尺寸修正盤表面形狀誤差的檢測方法，其特征在于，所述步驟a)為：以修正盤(26)的中心在拋光盤旋轉軸線上的垂足點為原點，垂足點指向修正盤中心為X軸正方向，沿拋光盤(22)旋轉軸往上為Z軸正方向，建立檢測參考直角坐標系，修正盤中心與拋光盤旋轉軸的距離記為R，則各檢測點在參考坐標系中的坐標為：

各檢測點對應的修正盤半徑為：

修正盤(26)相對于拋光盤旋轉軸的傾角誤差分解為兩個方向：1)XZ平面和修正盤(26)表面的交線與X軸的夾角，記為θ；2)YZ平面和修正盤(26)表面的交線與Y軸的夾角，記為Φ；其中，ω為拋光盤的轉速。

6.如權利要求4所述的環拋中大尺寸修正盤表面形狀誤差的檢測方法，其特征在于，所述步驟b)為：去傾斜處理，u_i＝(h_i+h_m+1-i)/2，可得各檢測點的參數：(x_i,y_i,r_i,u_i)，其中u_i＝(h_i+h_m+1-i)/2表示第i檢測點的去傾斜誤差，h_i和h_m+1-i表示第i和第m+1-i檢測點的檢測結果。

7.如權利要求4所述的環拋中大尺寸修正盤表面形狀誤差的檢測方法，其特征在于，所述步驟c)為：查找得到與參考點P具有相同半徑的檢測點c，c的參數記為c：(x_c,y_c,r_c,u_c)，c點相對于修正盤中心點的誤差(u_c-u_m/2)分為兩方面：1)實際形狀誤差；2)X方向傾角θ引入的誤差，滿足以下關系：

(u_c-u_m/2)＝h₀-tanθ(x_m/2-x_c)，從而求得tanθ，因此各檢測點的真實形狀誤差v_i為：v_i＝u_i-u_m/2+tanθ(x_m/2-x_i)。