[發(fā)明專利]蒸鍍掩膜板及蒸鍍裝置、蒸鍍工藝及測試膜層厚度的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710757187.3
• 申請日: 2017-08-29
• 公開（公告）號(hào): CN107557732B
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 程磊磊;彭銳;周斌;王慶賀
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/12;C23C14/14;C23C14/24;H01L51/56;H01L21/66
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種蒸鍍掩膜板，所述蒸鍍掩膜板應(yīng)用于依次沉積M種蒸鍍材料，每種所述蒸鍍材料放置在不同的蒸鍍源中，每種所述蒸鍍材料的蒸鍍溫度的區(qū)間無交集，M為大于1的正整數(shù)；所述蒸鍍掩膜板包括掩膜板本體；其特征在于，所述蒸鍍掩膜板還包括：

設(shè)置在所述掩膜板本體朝向所述蒸鍍源的第一表面上的M組溫度監(jiān)控裝置；每組所述溫度監(jiān)控裝置至少包括一個(gè)所述溫度監(jiān)控裝置；

設(shè)置在所述第一表面上呈凹陷的與每個(gè)所述溫度監(jiān)控裝置一一對應(yīng)的膜層監(jiān)控區(qū)域；

設(shè)置在每個(gè)所述膜層監(jiān)控區(qū)域上的控制窗口；

設(shè)置在每個(gè)所述膜層監(jiān)控區(qū)域內(nèi)的檢測電極對，用于獲取沉積到所述膜層監(jiān)控區(qū)域內(nèi)的膜層在測試電壓下的測試電流值；

每組所述溫度監(jiān)控裝置用于當(dāng)設(shè)定的一預(yù)設(shè)溫度的區(qū)間包含所述溫度監(jiān)控裝置獲取到的所述蒸鍍溫度時(shí)，控制對應(yīng)的所述膜層監(jiān)控區(qū)域上的所述控制窗口打開，以使具有所述蒸鍍溫度的所述蒸鍍源蒸發(fā)出的所述蒸鍍材料沉積在露出的所述膜層監(jiān)控區(qū)域內(nèi)；其中，

M組所述溫度監(jiān)控裝置與M種所述蒸鍍材料一一對應(yīng)，且每組所述溫度監(jiān)控裝置的所述預(yù)設(shè)溫度的區(qū)間僅包含對應(yīng)的一種所述蒸鍍材料的所述蒸鍍溫度；

或者，M組所述溫度監(jiān)控裝置包括：第一類型的M₁組所述溫度監(jiān)控裝置和第二類型的(M-M₁)組所述溫度監(jiān)控裝置，1≤M₁<M；所述M₁組中的任意一組所述溫度監(jiān)控裝置的所述預(yù)設(shè)溫度的區(qū)間包含N種所述蒸鍍材料的所述蒸鍍溫度，2≤N≤M，則其中(N-1)種所述蒸鍍材料在所述第二類型的(M-M₁)組所述溫度監(jiān)控裝置中均有一一對應(yīng)的一組所述溫度監(jiān)控裝置，且每組所述溫度監(jiān)控裝置的所述預(yù)設(shè)溫度的區(qū)間僅包含對應(yīng)的一種所述蒸鍍材料的所述蒸鍍溫度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，每個(gè)所述溫度監(jiān)控裝置包括：溫度感應(yīng)單元和處理單元；

所述溫度感應(yīng)單元用于獲取所述掩膜板本體下方的所述蒸鍍溫度，并向所述處理單元發(fā)送包含獲取到的所述蒸鍍溫度的感應(yīng)信息；

所述處理單元用于對接收到的所述感應(yīng)信息進(jìn)行處理，并向與所述溫度監(jiān)控裝置對應(yīng)的所述控制窗口發(fā)出反饋信息；

所述控制窗口根據(jù)接收到的所述反饋信息作出打開或關(guān)閉的反應(yīng)；

其中，當(dāng)所述處理單元判斷所述預(yù)設(shè)溫度的區(qū)間包含所述蒸鍍溫度時(shí)，所述反饋信息包括開啟信息；當(dāng)所述處理單元判斷所述預(yù)設(shè)溫度的區(qū)間不包含所述蒸鍍溫度時(shí)，所述反饋信息包括關(guān)閉信息。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，在多種所述蒸鍍材料均為有機(jī)材料的情況下，所述檢測電極對包括：相對設(shè)置的兩個(gè)交叉指型電極，且所述兩個(gè)交叉指型電極的交叉部分具有間隙。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，在多種所述蒸鍍材料均為金屬材料的情況下，所述檢測電極對包括：相對設(shè)置的兩個(gè)條形電極，且所述兩個(gè)條形電極分別位于所述膜層監(jiān)控區(qū)域的相對的兩個(gè)邊緣處。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩膜板，其特征在于，所述掩膜板本體包括：開口部分和架設(shè)在所述開口部分內(nèi)的支撐條。

6.一種蒸鍍裝置，包括放置在不同蒸鍍區(qū)域內(nèi)的M個(gè)蒸鍍源；每個(gè)所述蒸鍍源放置不同的蒸鍍材料，每種所述蒸鍍材料的蒸鍍溫度的區(qū)域無交集，M為大于1的正整數(shù)；其特征在于，所述蒸鍍裝置還包括：設(shè)置在所述蒸鍍源蒸發(fā)方向上方的如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩膜板。