[發(fā)明專利]一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710754231.5
• 申請日: 2017-08-29
• 公開（公告）號: CN107739073A
• 公開（公告）日: 2018-02-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 戴捷;謝遠(yuǎn)莎;胡耀笛;王燕;吳先威;易俊
• 申請（專利權(quán)）人: 長江大學(xué)
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461
• 代理公司: 武漢河山金堂專利事務(wù)所(普通合伙)42212
• 代理人: 胡清堂

1.一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置，其特征在于：包括一用于放置粒子電極(2)的反應(yīng)裝置殼體(1)、一承托板(3)、四個卡槽(4)、兩個電極保護箱(5)、主電極板(6)，所述承托板(3)設(shè)置于所述反應(yīng)裝置殼體(1)下部，使得所述反應(yīng)裝置殼體(1)分為上、下兩層，所述卡槽(4)、所述電機保護機構(gòu)設(shè)置于所述反應(yīng)裝置殼體(1)的上層，且所述反應(yīng)裝置殼體(1)與所述卡槽(4)一體成型；四個所述卡槽(4)兩兩一組分別對稱設(shè)置于所述反應(yīng)裝置殼體(1)的兩個內(nèi)壁上，且對稱位于所述反應(yīng)裝置殼體(1)兩個內(nèi)壁上的一組所述卡槽(4)構(gòu)成一用于配合安裝所述電極保護箱(5)的容納空間7；所述主電極板(6)固定于所述電極保護箱(5)內(nèi)，而粒子電極(2)位于所述反應(yīng)裝置殼體(1)內(nèi)并在所述電極保護箱(5)之外。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置，其特征在于：所述卡槽(4)包括一連接部(41)、兩個第一凸起部(42)，所述連接部(41)將兩個所述第一凸起部(42)連接，且兩個所述第一凸起部(42)對稱設(shè)置于所述連接部(41)左、右兩側(cè)，并與所述連接部(41)水平設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置，其特征在于：所述連接部(41)與所述反應(yīng)裝置殼體(1)的側(cè)壁一體成型。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置，其特征在于：所述電極保護箱(5)包括：一箱本體(51)、兩個為空腔的第二凸起部(52)、四個凹陷部(53)，兩個所述第二凸起部(52)對稱設(shè)置于所述箱本體(51)兩端，且與所述箱本體(51)相通、并一體成型，使得兩個所述第二凸起部(52)之間圍合的空間用于卡緊所述主電極板(6)；每個所述第二凸起部(52)沿其長度方向兩側(cè)均相鄰設(shè)置一所述凹陷部(53)，使得所述第二凸起部(52)卡合安裝于所述卡槽(4)內(nèi)時，所述凹陷部(53)與所述第一凸起部(42)配合安裝。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置，其特征在于：所述第一凸起部(42)的長度小于等于所述凹陷部(53)的長度。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置，其特征在于：所述卡槽(4)的槽長大于所述凹陷部(53)的長度1～3mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一所述一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置，其特征在于：所述電極保護箱(5)未于所述反應(yīng)裝置殼體(1)相連的側(cè)壁上開設(shè)有多個通孔(54)，且所述通孔(54)孔徑小于位于所述反應(yīng)裝置殼體(1)內(nèi)粒子電極(2)的孔徑。

8.根據(jù)權(quán)利要求4至6任一所述一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置，其特征在于：所述第一凸起部(42)、所述第二凸起部(52)的高度均等于所述反應(yīng)裝置殼體(1)的頂端面與所述承托板(3)之間的垂直距離。

9.根據(jù)權(quán)利要求4至6任一所述一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置，其特征在于：所述第二凸起部(52)的長度等于所述主電極板(6)厚度的3倍。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一所述一種三維電化學(xué)反應(yīng)裝置，其特征在于：所述承托板(3)上開設(shè)有多個過孔(31)，且所述過孔(31)的孔徑小于粒子電極(2)的直徑。