[發明專利]一種晶體能量校正方法和裝置

在審

• 申請號: 201710741305.1
• 申請日: 2017-08-25
• 公開（公告）號: CN107569249A
• 公開（公告）日: 2018-01-12
• 發明（設計）人: 高鵬;楊龍;寧鵬;梁國棟;張軍
• 申請（專利權）人: 沈陽東軟醫療系統有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 北京博思佳知識產權代理有限公司11415
• 代理人: 陳蕾,靳玫

1.一種晶體能量校正方法，其特征在于，所述方法由主機設備中的控制器執行，所述主機設備還包括探測器模塊，所述方法包括：

所述控制器獲取所述探測器模塊中的各個晶體的能量分布信息，每個晶體的所述能量分布信息包括：所述晶體探測到的各個光子能量、以及分別對應各光子能量的計數；

所述控制器根據理想能量分布信息和各個晶體的所述能量分布信息，分別獲取對應各個晶體的能量校正參數；

所述控制器根據所述能量校正參數，對所述探測器模塊中的各個晶體進行能量一致性校正。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制器是現場可編程門陣列FPGA。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制器采集所述探測器模塊中的各個晶體的能量分布信息，包括：

所述控制器通過與所述探測器模塊對應的陣列結構，采集所述探測器模塊中的各個晶體的能量分布信息；

所述陣列結構中包括分別與所述各個晶體一一對應的處理單元；

所述處理單元，采集對應的晶體的能量分布信息，并將所述能量分布信息存儲至所述控制器中的存儲單元。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制器根據理想能量分布信息和各個晶體的能量分布信息，分別獲取對應各個晶體的能量校正參數，包括：

所述控制器根據各個晶體的所述能量分布信息，分別得到對應每個晶體的能量分布曲線；

將所述能量分布曲線與理想能量分布信息對應的標準分布曲線比較，得到用于能量校正的所述能量校正參數。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

所述控制器實時采集所述探測器模塊中的各個晶體的能量分布信息；

若所述實時的能量分布信息與理想能量分布信息的差異超出預設范圍，則所述控制器調整所述能量分布信息對應的晶體的能量校正參數。

6.一種醫療掃描設備，其特征在于，所述設備包括：多個探測器模塊，每個探測器模塊包括多個晶體；還包括與所述探測器模塊連接的控制器；

所述探測器模塊，用于通過所述各個晶體探測γ光子的光子能量；

所述控制器，用于采集探測器模塊中的各個晶體的能量分布信息，每個晶體的所述能量分布信息包括：所述晶體探測到的各個光子能量、以及分別對應各光子能量的計數；根據理想能量分布信息和各個晶體的所述能量分布信息，分別獲取對應各個晶體的能量校正參數；根據所述能量校正參數，對所述探測器模塊中的各個晶體進行能量一致性校正。

7.根據權利要求6所述的設備，其特征在于，所述控制器是現場可編程門陣列FPGA。

8.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述控制器包括：與所述探測器模塊對應的陣列結構，所述陣列結構包括分別與所述探測器模塊中的各個晶體一一對應的處理單元，所述控制器還包括存儲單元；

所述處理單元，用于采集對應的晶體的能量分布信息，并將所述能量分布信息存儲至所述存儲單元。

9.根據權利要求6所述的設備，其特征在于，所述控制器，在用于獲取能量校正參數時，包括：根據各個晶體的所述能量分布信息，分別得到對應每個晶體的能量分布曲線；將所述能量分布曲線與理想能量分布信息對應的標準分布曲線比較，得到用于能量校正的所述能量校正參數。

10.根據權利要求6所述的設備，其特征在于，

所述控制器，還用于：實時采集所述探測器模塊中的各個晶體的能量分布信息；若所述實時的能量分布信息與理想能量分布信息的差異超出預設范圍，則調整所述能量分布信息對應的晶體的能量校正參數。