[發明專利]具有方位角與徑向分布控制的多區域氣體注入組件

有效

• 申請號: 201710705541.8
• 申請日: 2014-02-03
• 公開（公告）號: CN107424901B
• 公開（公告）日: 2019-06-11
• 發明（設計）人: Y·羅森佐恩;K·坦蒂翁;I·優素福;V·克尼亞齊克;B·基廷;S·巴納
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 金紅蓮

1.一種側部氣體注入噴嘴，用于置于頂部襯墊環的噴嘴囊中，所述側部氣體注入噴嘴包括：

圓柱形主體，具有外部噴嘴表面；

氣體注入通路，在所述圓柱形主體的徑向內部端部處形成孔口；

軸向延伸的氣體傳送插件孔，在所述圓柱形主體的徑向外部端部附近通過所述圓柱形主體延伸；

內部的徑向噴嘴氣體流動通路，從所述軸向延伸的氣體傳送插件孔向所述氣體注入通路通過所述圓柱形主體延伸；

多個O型環噴嘴槽，在所述外部噴嘴表面且與所述圓柱形主體呈同心；以及

軸向排空狹孔，包括所述外部噴嘴表面的狹孔部，所述狹孔部從所述圓柱形主體的徑向外部端部向所述O型環噴嘴槽延伸。

2.如權利要求1所述的側部氣體注入噴嘴，其特征在于，所述軸向排空狹孔包括第一軸向狹孔部，所述第一軸向狹孔部在所述圓柱形主體的徑向外部端部與所述多個O型環噴嘴槽的第一O型環噴嘴槽之間延伸。

3.如權利要求2所述的側部氣體注入噴嘴，其特征在于，所述軸向排空狹孔包括所述外部噴嘴表面中的第二軸向狹孔部，所述第二軸向狹孔部從所述多個O型環噴嘴槽的所述第一O型環噴嘴槽向所述多個O型環噴嘴槽的第二O型環噴嘴槽延伸。

4.如權利要求3所述的側部氣體注入噴嘴，其特征在于，所述軸向排空狹孔包括所述外部噴嘴表面中的第三軸向狹孔部，所述第三軸向狹孔部從所述多個O型環噴嘴槽的所述第二O型環噴嘴槽向所述圓柱形主體的所述徑向內部端部延伸預定距離。

5.如權利要求3所述的側部氣體注入噴嘴，其特征在于，所述軸向排空狹孔包括：第一槽軸向狹孔部，形成在所述第一O型環噴嘴槽的內部噴嘴槽表面中；以及第二槽軸向狹孔部，形成在所述第二O型環噴嘴槽的內部噴嘴槽表面中，所述噴嘴槽表面中的所述第一槽軸向狹孔部和所述第二槽軸向狹孔部在所述多個O型環噴嘴槽中的多個O型環周圍提供排空路徑。

6.如權利要求1所述的側部氣體注入噴嘴，其特征在于，所述側部氣體注入噴嘴包括陶瓷材料。

7.如權利要求1所述的側部氣體注入噴嘴，其特征在于，包括所述多個O型環噴嘴槽中的多個O型環，將壓抵所述噴嘴囊的內部側壁。

8.如權利要求1所述的側部氣體注入噴嘴，其特征在于，所述軸向延伸的氣體傳送插件孔位于所述多個O型環噴嘴槽的第一O型環噴嘴槽與第二O型環噴嘴槽之間。