[發明專利]一種等離子真空鍍膜室的工件同電位測溫裝置

有效

• 申請號: 201710695439.4
• 申請日: 2017-08-15
• 公開（公告）號: CN107475682B
• 公開（公告）日: 2020-04-03
• 發明（設計）人: 應世強;尹忠樂;李術杰
• 申請（專利權）人: 佛山市南海區晶鼎泰智能科技有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54
• 代理公司: 廣州科粵專利商標代理有限公司 44001
• 代理人: 方螢玉;莫瑤江

本發明公開了一種等離子真空鍍膜室的工件同電位測溫裝置，包括鍍膜室罐體和測溫電熱偶；所述鍍膜室罐體的內部形成有鍍膜室腔；鍍膜室腔內設有工件架和轉盤，所述所述工件架固定在所胡轉盤上；所述鍍膜室罐體上設有開孔；所述測溫熱電偶的測量端從鍍膜室罐體外穿過所述開孔伸入鍍膜室腔內；其特征是，所述鍍膜室腔內還設有與工件架保持同步，水平旋轉的環形導熱板；所述環形導熱板固定在所述工件架上；所述測溫電熱偶的測量端與所述環形導熱板接觸。本發明的具有能更加精準的測量工件所在電位的實際溫度，縮短調試工藝的時間，提高生產效率和減少成本等優點。

技術領域

本發明新型涉及一種在線測溫裝置，尤其是一種等離子真空鍍膜室的工件同電位測溫裝置。

背景技術

眾所周知，等離子體中工件溫度測量的精確程度對工具鍍的工藝制定有著重要的作用，因為在真空鍍過程中工件通常都處于運動狀態，并加上幾十伏至幾百伏不等的負偏壓，所以有絕緣、密封、傳動等多方面的要求，真空室內布置加熱器的位置不同對區域溫度影響也不同，鍍膜過程中的等離子體及周邊的溫度分布也是不均勻的，而通常真空室內的溫度測量只是測量固定位置的空間溫度，不能準確反映工件的實際溫度，工具鍍的工件材料對溫度又十分敏感，所以掌握實際工件材料的真實溫度對鍍膜工藝的調整十分重要。

為此，需要開發一種新的測量裝置。

發明內容

本發明的目的在于提供一種能更加精準的測量工件所在電位的實際溫度，縮短調試工藝的時間，提高生產效率和減少成本的電位測溫裝置。

為了實現上述目的，本發明采用如下技術方案：

一種等離子真空鍍膜室的工件同電位測溫裝置，包括鍍膜室罐體和測溫電熱偶；所述鍍膜室罐體的內部形成有鍍膜室腔；鍍膜室腔內設有工件架和轉盤，所述轉盤設置在鍍膜室腔的底部且可水平自轉；所述工件架固定在所述轉盤上、可隨轉盤同步轉動；所述鍍膜室罐體上設有開孔；所述測溫熱電偶的測量端從鍍膜室罐體外穿過所述開孔伸入鍍膜室腔內；特別地：所述鍍膜室腔內還設有沿工件架外周設置的環形導熱板；所述環形導熱板固定在所述工件架上、且可與工件架同步旋轉；所述測溫電熱偶的測量端與所述環形導熱板接觸。

本發明原理如下:

在真空環境下在線實時測量等離子體內工件同電位溫度的裝置，通過固開孔從真空室外引入測溫熱電偶，測溫熱電偶在爐內直接接觸測量爐內工件架上環形導熱板，環形導熱板隨工件在真空室內保持水平旋轉，并始終與測溫熱電偶接觸，同時在環形導熱板上與轉架同電位，并接入負偏壓，并且將圓環置于等離子區域內。

為了保證工件鍍膜均勻，高效，優選的是，所述工件架包括工件架固定盤和基座；所述工件架固定盤上面設置有若干個均布的圓孔；所述工件架固定盤和所述基座中間設置有若干條工件支撐桿；所述工件支撐桿套設在所述工件架固定盤的圓孔內。

為了保證每個測量點處于完全一致的測量條件，優選的是，所述環形導熱板外輪廓為圓環狀。

附圖說明

圖1是本發明實施例中測溫裝置立體示意圖。

附圖標記說明：1-鍍膜室罐體；2-測溫熱電偶；3-工件架；4-開孔；5-環形導熱板；6-工件架固定盤；7-轉盤；8-工件支撐桿；9-工件；10-鍍膜室腔。

具體實施方式

如圖1所示，一種等離子真空鍍膜室的工件同電位測溫裝置，包括鍍膜室罐體1和測溫電熱偶2；鍍膜室罐體1的內部形成有鍍膜室腔10；鍍膜室腔10內設有工件架3和轉盤，工件架3固定在轉盤7上、且可隨轉盤同步自轉；鍍膜室罐體1上設有開孔4；測溫熱電偶2的測量端從鍍膜室罐體1外穿過開孔4伸入鍍膜室腔內2；鍍膜室腔內10還設有水平地沿工件架3的周向設置的環形導熱板5；環形導熱板5也是固定在工件架3且可隨轉盤同步自轉的；測溫電熱偶2的測量端與環形導熱板5接觸；環形導熱板5外輪廓為圓環狀。