[發(fā)明專利]彩膜基板、其制備方法、顯示裝置及顯示方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710681594.0
• 申請日: 2017-08-10
• 公開（公告）號: CN109387971B
• 公開（公告）日: 2020-07-17
• 發(fā)明（設計）人: 王菲菲;宋平;劉德強;趙合彬;占紅明;邵喜斌
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1343;C09K19/38;C08F283/12;C08F220/30
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 劉偉;蔡麗

1.一種彩膜基板，其特征在于，包括：

第一基板；

位于所述第一基板上的多個濾色單元和設置于每個濾色單元相對兩側的電極，所述電極形成的電場的方向與第一基板表面方向平行；所述濾色單元配置為根據施加在所述電極上的電信號透射不同波長的光；

覆蓋所述濾色單元和電極的第二基板；

所述濾色單元包括：

壓電材料層和形成于所述壓電材料層上的液晶層；所述液晶層包括液晶彈性體，所述壓電材料層的極化方向與電極形成的電場的方向平行。

2.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述液晶層由10～70wt％的液晶彈性體、4～86.99wt％的小分子液晶、3～25wt％的光可聚合單體和0.01～1wt％的光引發(fā)劑經聚合而成。

3.根據權利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述小分子液晶為SLC1717，或者為DIC0773，或者為Merck1284；

所述光可聚合單體為或者

所述光引發(fā)劑為

所述液晶彈性體為

其中為或者為或者

4.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板還包括：

黑矩陣圖形，所述濾色單元位于所述黑矩陣圖形限定出的像素區(qū)域，所述電極在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩陣圖形在所述第一基板上的正投影內。

5.根據權利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩陣圖形位于所述第一基板未設置所述濾色單元的一側表面，所述黑矩陣表面設置有平坦層；

或者

所述黑矩陣圖形與所述濾色單元位于所述第一基板的同一側表面。

6.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述液晶層的厚度為

7.根據權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述壓電材料層由石英或鈮酸鋰制備得到。

8.根據權利要求1～7任意一項所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板還包括：

黑矩陣圖形；

位于所述第一基板未設置所述濾色單元的一側表面上的隔墊物，所述隔墊物在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩陣圖形在所述第一基板上的正投影內。

9.一種彩膜基板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供第一基板；

在所述第一基板上形成多個濾色單元；

在所述濾色單元相對的兩側形成電極，所述電極形成的電場的方向與第一基板表面方向平行；所述濾色單元配置為根據施加在所述電極上的電信號透射不同波長的光；

形成覆蓋所述濾色單元和電極的第二基板；

所述濾色單元的制備方法為：

在所述第一基板上形成壓電材料層；所述壓電材料層的極化方向與電極形成的電場的方向平行；

在所述壓電材料層上形成液晶層；所述液晶層包括液晶彈性體。

10.根據權利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括形成黑矩陣圖形，所述濾色單元位于所述黑矩陣圖形限定出的像素區(qū)域，所述電極在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩陣圖形在所述第一基板上的正投影內。

11.根據權利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述液晶層的制備方法為：

將10～70wt％的液晶彈性體、4～86.99wt％的小分子液晶、3～25wt％的光可聚合單體和0.01～1wt％的光引發(fā)劑均勻混合，涂覆于所述壓電材料層上，經過曝光、顯影以及成型，形成液晶層。

12.根據權利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括：

形成黑矩陣圖形；

在所述第一基板未設置所述濾色單元的一側表面上形成隔墊物，所述隔墊物在所述第一基板上的正投影落入所述黑矩陣圖形在所述第一基板上的正投影內。