[發(fā)明專利]顯示裝置及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710665648.4 | 申請日： | 2017-08-07 |
| 公開（公告）號： | CN107871761B | 公開（公告）日： | 2023-09-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 辛在敏;姜勝培;洪鐘昊;金建模;金敏佑;樸源祥;朱惠珍 | 申請（專利權(quán)）人： | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號： | H10K59/12 | 分類號： | H10K59/12;H10K59/126;H10K77/10;H10K71/00 |
| 代理公司： | 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人： | 尹淑梅;劉燦強 |
| 地址： | 韓國京畿*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種顯示裝置，所述顯示裝置包括：
多個島狀體；以及
橋接件，將所述多個島狀體彼此連接，
其中，所述多個島狀體中的每個島狀體包括：
柔性基底，
薄膜晶體管，設(shè)置在所述柔性基底的第一表面上，
第一電極，連接到所述薄膜晶體管，
第二電極，位于所述第一電極上，
包封層，位于所述第二電極上，以及
保護(hù)掩模，設(shè)置在所述柔性基底的第二表面上，
其中，所述第二電極的邊緣和所述包封層的邊緣與所述柔性基底的上表面的邊緣重合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中，
所述柔性基底的側(cè)表面具有倒錐形形狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中，
所述保護(hù)掩模由金屬或無機絕緣材料制成，
所述柔性基底包括聚酰亞胺。
4.一種顯示裝置的制造方法，所述顯示裝置的制造方法包括：
形成輔助柔性基底；
在所述輔助柔性基底上形成保護(hù)掩模；
在所述輔助柔性基底上并在所述保護(hù)掩模上形成預(yù)柔性基底；
在所述預(yù)柔性基底上形成薄膜晶體管和連接到所述薄膜晶體管的第一電極；以及
去除所述輔助柔性基底，然后通過使用所述保護(hù)掩模將所述預(yù)柔性基底圖案化，以形成柔性基底，從而形成多個島狀體和將所述多個島狀體彼此連接的橋接件，
其中，所述多個島狀體中的每個島狀體包括：
所述柔性基底，
所述薄膜晶體管，設(shè)置在所述柔性基底的第一表面上，
所述第一電極，連接到所述薄膜晶體管，以及
所述保護(hù)掩模，設(shè)置在所述柔性基底的第二表面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置的制造方法，其中，
在將所述預(yù)柔性基底圖案化的步驟中，蝕刻所述輔助柔性基底和所述預(yù)柔性基底的后表面，
其中，
在將所述預(yù)柔性基底圖案化的步驟中，所述柔性基底的側(cè)表面具有倒錐形形狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置的制造方法，所述顯示裝置的制造方法還包括：
在所述第一電極上形成包封層，
蝕刻所述保護(hù)掩模和所述包封層，
其中，
所述保護(hù)掩模由金屬或無機絕緣材料制成，
在蝕刻所述保護(hù)掩模的步驟中，所述保護(hù)掩模的厚度減小，
所述保護(hù)掩模包括非晶硅。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置的制造方法，其中，
所述柔性基底與所述薄膜晶體管疊置，
所述柔性基底包括聚酰亞胺。
8.一種顯示裝置的制造方法，所述顯示裝置的制造方法包括：
形成輔助柔性基底；
在所述輔助柔性基底上形成保護(hù)掩模；
在所述輔助柔性基底上并在所述保護(hù)掩模上形成包括顯示區(qū)和外圍區(qū)的預(yù)柔性基底，
其中，所述外圍區(qū)包括彎曲區(qū)和非彎曲區(qū)；
在所述預(yù)柔性基底的所述顯示區(qū)上形成像素部；
在所述預(yù)柔性基底的所述非彎曲區(qū)上形成驅(qū)動電路部；以及
去除所述輔助柔性基底，然后通過使用所述保護(hù)掩模將所述預(yù)柔性基底圖案化，以形成柔性基底，從而形成多個島狀體和將所述多個島狀體彼此連接的橋接件，
其中，所述多個島狀體中的每個島狀體包括：
所述柔性基底，
薄膜晶體管，設(shè)置在所述柔性基底的第一表面上，
第一電極，連接到所述薄膜晶體管，以及
所述保護(hù)掩模，設(shè)置在所述柔性基底的第二表面上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法，其中，
在將所述預(yù)柔性基底圖案化的步驟中，蝕刻所述輔助柔性基底和所述預(yù)柔性基底的后表面，
其中，
在將所述預(yù)柔性基底圖案化的步驟中，所述預(yù)柔性基底的所述彎曲區(qū)的厚度減小，
其中，
在位于所述柔性基底的所述顯示區(qū)與所述彎曲區(qū)之間的邊界處以及在位于所述柔性基底的所述彎曲區(qū)與所述非彎曲區(qū)之間的邊界處，所述柔性基底的側(cè)表面具有倒錐形形狀。
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