[發(fā)明專利]一種利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710665459.7
• 申請(qǐng)日: 2017-08-07
• 公開（公告）號(hào): CN107466585A
• 公開（公告）日: 2017-12-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高鵬;張進(jìn);劉大軍;沈雁卿
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江亞特電器有限公司
• 主分類號(hào): A01D43/063
• 分類號(hào): A01D43/063;A01D57/01
• 代理公司: 杭州華鼎知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)33217
• 代理人: 方艷

1.一種利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)，包括機(jī)殼和切割刀具，所述機(jī)殼的底部設(shè)有切割腔，所述切割刀具轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在所述切割腔內(nèi)，所述機(jī)殼上設(shè)有與所述切割腔連通且用于將機(jī)殼側(cè)方的雜草引導(dǎo)進(jìn)入切割腔內(nèi)的側(cè)引導(dǎo)槽，其特征在于，所述側(cè)引導(dǎo)槽包括第一導(dǎo)向面和第二導(dǎo)向面，所述第一導(dǎo)向面位于側(cè)引導(dǎo)槽的頂壁，所述第二導(dǎo)向面位于側(cè)引導(dǎo)槽的側(cè)壁，所述第一導(dǎo)向面為光滑面。

2.如權(quán)利要求1所述的利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)，其特征在于，所述第一導(dǎo)向面為光滑的弧面或光滑的斜面。

3.如權(quán)利要求2所述的利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)，其特征在于，所述第一導(dǎo)向面離機(jī)殼的底面之間的豎直距離，沿進(jìn)草方向逐漸減小。

4.如權(quán)利要求3所述的利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)，其特征在于，所述第一導(dǎo)向面的內(nèi)側(cè)端高度等于或低于所述切割刀具的高度。

5.如權(quán)利要求2所述的利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)，其特征在于，所述第二導(dǎo)向面為光滑面。

6.如權(quán)利要求5所述的利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)，其特征在于，所述第二導(dǎo)向面為光滑的弧面或光滑的斜面。

7.如權(quán)利要求6所述的利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)，其特征在于，所述第二導(dǎo)向面離機(jī)殼的中軸線之間的水平距離，沿進(jìn)草方向逐漸減小。

8.如權(quán)利要求1至7之一所述的利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)，其特征在于，所述機(jī)殼包括主殼體和與所述主殼體可拆連接的引導(dǎo)殼，所述第一導(dǎo)向面設(shè)置在所述引導(dǎo)殼上。

9.如權(quán)利要求8所述的利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)，其特征在于，所述第二導(dǎo)向面設(shè)置在所述主殼體上或所述引導(dǎo)殼上。

10.如權(quán)利要求8所述的利于側(cè)向?qū)Р莸母畈輽C(jī)，其特征在于，所述主殼體上設(shè)有定位柱，所述引導(dǎo)殼上設(shè)有與所述定位柱配合的定位槽。