[發明專利]減反膜鏡片及其制備方法

有效

• 申請號: 201710661710.2
• 申請日: 2017-08-04
• 公開（公告）號: CN107300727B
• 公開（公告）日: 2023-08-11
• 發明（設計）人: 李毅楨;聶小飛;葉忠海;謝志高;唐甫星;王維;肖芳;張強;牟聯偉;蔣連林;閔丹丹
• 申請（專利權）人: 舜宇光學（中山）有限公司
• 主分類號: G02B1/111
• 分類號: G02B1/111
• 代理公司: 北京謹誠君睿知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11538
• 代理人: 陸鑫;延慧

本發明涉及一種減反膜鏡片，包括：基材；減反膜，鍍制在所述基材的一個表面上；所述減反膜由從內到外的九層材料層構成；所述九層材料層由交替鍍制的低折射率材料層和高折射率材料層構成；所述從內到外的九層膜層分別為：第一低折射率材料層、第一高折射率材料層、第二低折射率材料層、第二高折射率材料層、第三低折射率材料層、第三高折射率材料層、第四低折射率材料層、第四高折射率材料層和第五低折射率材料層。該減反膜鏡片結構穩定，膜層之間牢固程度高，耐刮擦性能以及機械性能好。

技術領域

本發明涉及一種減反膜鏡片及其制備方法。

背景技術

中國專利201110434960.5公開了一種高強度減反膜系結構。這種減反膜系結構適用于S-FPL51、S-BSM81和LAK10等玻璃基材，減反膜中鍍制有中折射率的MgF2和AL2O3材料層。這種減反膜系結構不適用于塑膠鏡片，而且膜層的耐刮擦性能和機械性能不夠強，達不到塑膠鏡片鍍制減反膜對于機械性能的要求。

P(塑膠)鏡片超硬減反膜主要應用于可拍照手機攝像頭、電腦內置攝像頭及車載攝像頭等數碼成像等領域。運動攝像機(SDV)光學模組。

為減少光學模組中鏡片的使用數量，達到簡化結構、節約成本的效果，采用P(塑膠)鏡片取代玻璃球面鏡片，但因P鏡片的材料特性：耐高溫性差(溫度超過120℃會軟化與變形)，采取現有鍍膜工藝加工的產品：膜層致密性差，膜層牢固度差，耐刮擦性差。膜層性能達不到使用要求，且使用壽命短。

發明內容

本發明的目的在于提供一種結構穩定，膜層之間牢固度高，耐刮擦性能和機械性能好的減反膜鏡片，以及這種減反膜鏡片的制備方法。

為實現上述目的，本發明提供一種減反膜鏡片，包括:

基材；

減反膜，鍍制在所述基材的一個表面上；

所述減反膜由從內到外的九層材料層構成；

所述九層材料層由交替鍍制的低折射率材料層和高折射率材料層構成；

所述從內到外的九層膜層分別為：第一低折射率材料層、第一高折射率材料層、第二低折射率材料層、第二高折射率材料層、第三低折射率材料層、第三高折射率材料層、第四低折射率材料層、第四高折射率材料層和第五低折射率材料層。

根據本發明的一個方面，所述第一低折射率材料層、所述第二高折射率材料層、所述第三低折射率材料層、所述第四高折射率材料層、所述第五低折射率材料層、所述第六高折射率材料層、所述第七低折射率材料層、所述第八高折射率材料層和所述第九低折射率材料層的厚度范圍分別為：189.93-193.75nm、7.84-8nm、26.4-26.94nm、15.34-15.65nm、19.29-19.68nm、71.73-73.17nm、10.34-10.54nm、32.88-33.54nm和97.51-99.47nm。

根據本發明的一個方面，所述基材的材料為光學樹脂材料。

根據本發明的一個方面，所述基材的材料為F52R樹脂材料,其折射率為Nd＝1.535，阿貝數Vd＝56.072(-/+0.8％)。

根據本發明的一個方面，所述低射率材料層的材料為二氧化硅。

根據本發明的一個方面，所述高折射率材料層的材料為五氧化三鈦。

為實現上述目的，本發明提供一種制備減反膜鏡片的方法，包括以下步驟：

(a)采用離子源清洗工藝清洗基材；

(b)真空狀態下在基材的一個面上交替鍍制九層低折射率材料層和高折射率材料層形成減反膜；

(c)鍍膜后保持真空狀態。