[發明專利]一種陰離子型防紫外線輻射的水溶性添加劑及其制備方法有效
| 申請號: | 201710653495.1 | 申請日: | 2017-08-02 |
| 公開(公告)號: | CN107602914B | 公開(公告)日: | 2019-08-13 |
| 發明(設計)人: | 戎佳萌;陶燦;徐杰;王繼印;賈娟;潘軫 | 申請(專利權)人: | 合肥思敬齊化工材料有限責任公司 |
| 主分類號: | C08K5/205 | 分類號: | C08K5/205;C08K5/42;C09D7/63;C09J11/06;C07C271/24;C07C309/46;C07C309/14;C07C303/32;C07C269/02 |
| 代理公司: | 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 張清彥 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥市高*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水溶性添加劑 反應基團 制備 防紫外線輻射 陰離子型 反應器 丁酮 催化劑 二異氰酸酯 攪拌反應 有機溶劑 磺酸型 三乙胺 紫外線 羧酸 洗滌 中和 污染 | ||
1.一種陰離子型防紫外線輻射的水溶性添加劑,其特征在于其結構式為所示:
式中R1結構可為下列結構之一:
式中R2結構可為下列結構之一:
式中R3結構可為下列結構之一:
式中R4結構可為下列結構之一:
2.一種陰離子型防紫外線輻射的水溶性添加劑的制備方法,其特征在于包括以下步驟:
(1)按1:1摩爾比的量將有機防紫外線助劑與二異氰酸酯置于反應器中,加入有機防紫外線助劑和二異氰酸酯總質量40%的丁酮作為溶劑,加入總質量0.2%的二月桂酸二丁基錫或辛酸亞錫作為催化劑,在70-80℃并攪拌的條件下反應3-5小時,通過柱層析分離的方法分離得到中間體;
(2)將中間體投入到反應器中,加入等摩爾比的含有-OH反應基團且具有-COOH化合物或含有-NH2反應基團且具有-SO3Na化合物,并加入總質量100%的丁酮作為溶劑,加入總質量0.2%的二月桂酸二丁基錫或辛酸亞錫作為催化劑,在70-80℃并攪拌的條件下反應4-6小時;
(3)當步驟(2)加入的是含有-OH反應基團且具有-COOH化合物時,加入等羧基摩爾比的三乙胺進行中和,即可得到羧酸型陰離子防紫外線輻射的水溶性添加劑;當步驟(2)加入的是含有-NH2反應基團且具有-SO3Na化合物時,即得磺酸型陰離子防紫外線輻射的水溶性添加劑。
3.根據權利要求2所述的一種陰離子型防紫外線輻射的水溶性添加劑的制備方法,其特征在于:所述有機防紫外線助劑的結構式為:
4.根據權利要求2所述的一種陰離子型防紫外線輻射的水溶性添加劑的制備方法,其特征在于:所述二異氰酸酯為異佛爾酮二異氰酸酯或4,4'-二環己基甲烷二異氰酸酯。
5.根據權利要求2所述的一種陰離子型防紫外線輻射的水溶性添加劑的制備方法,其特征在于:所述含有-OH反應基團且具有-COOH化合物的結構式為:
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6.根據權利要求2所述的一種陰離子型防紫外線輻射的水溶性添加劑的制備方法,其特征在于:所述含有-NH2反應基團且具有-SO3Na化合物的結構式為:
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