[發明專利]一種金屬光柵的制作方法、金屬光柵及顯示裝置

有效

• 申請號: 201710652740.7
• 申請日: 2017-08-02
• 公開（公告）號: CN107219723B
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發明（設計）人: 齊永蓮;曲連杰;貴炳強;趙合彬;邱云
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G03F7/20;G02B5/30
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 郭潤湘

1.一種金屬光柵的制作方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上依次形成金屬層、減反層和深紫外光刻膠層；

采用光刻工藝對所述深紫外光刻膠層進行刻蝕，形成光柵掩膜圖案；

以所述光柵掩膜圖案作為遮擋，采用干刻工藝對所述減反層進行刻蝕，形成與所述光柵掩膜圖案相同的刻蝕模板圖案；

剝離具有所述光柵掩膜圖案的深紫外光刻膠層；

以所述刻蝕模板圖案作為遮擋，采用干刻工藝對所述金屬層進行刻蝕，形成金屬光柵；

采用等離子體處理工藝，在去除具有所述刻蝕模板圖案的減反層的同時，在所述金屬光柵的表面形成保護膜；

在形成所述減反層之后，且形成所述深紫外光刻膠層之前，還包括：在所述減反層上形成硬膜板層；

在以所述光柵掩膜圖案作為遮擋，采用干刻工藝對所述減反層進行刻蝕的同時，還包括：采用干刻工藝對所述硬膜板層進行刻蝕；

在形成金屬光柵之后，且采用等離子體處理工藝之前，還包括：去除具有所述刻蝕模板圖案的硬膜板層。

2.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述金屬層上依次形成減反層和深紫外光刻膠層，具體包括：

形成的所述深紫外光刻膠層和所述減反層之間的刻蝕選擇比不小于預設閾值。

3.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述金屬層上依次形成減反層和深紫外光刻膠層，具體包括：

形成的所述深紫外光刻膠層和所述減反層之間的刻蝕選擇比不小于所述深紫外光刻膠層和硬膜板層之間的刻蝕選擇比。

4.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述金屬層上形成所述減反層，具體包括：

在所述金屬層上依次形成多層折射率不同的減反層。

5.如權利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述在所述金屬層上依次形成多層折射率不同的減反層，具體包括：

在所述金屬層上依次形成奇數層的折射率高于相鄰的偶數層的折射率的多層減反層。

6.如權利要求1-5任一項所述的制作方法，其特征在于，所述采用等離子體處理工藝，在去除具有所述刻蝕模板圖案的減反層的同時，在所述金屬光柵的表面形成保護膜，具體包括：

采用等離子體處理工藝，通入過量時間的氧氣，在去除具有所述刻蝕模板圖案的減反層的同時，在所述金屬光柵的表面進行氧化處理形成保護膜。