[發明專利]一種配向膜涂布方法以及配向膜制備裝置

在審

• 申請號: 201710633608.1
• 申請日: 2017-07-28
• 公開（公告）號: CN107272266A
• 公開（公告）日: 2017-10-20
• 發明（設計）人: 井楊坤;賴建文
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291
• 代理人: 郭潤湘

1.一種配向膜涂布方法，其特征在于，所述方法包括：

在襯底基板一側整版涂布配向膜溶液并形成整層膜層；

對所述整層膜層進行摩擦配向；

采用構圖工藝對進行摩擦配向之后的所述整層膜層進行構圖，形成配向膜圖案。

2.根據權利要求1所述的配向膜涂布方法，其特征在于，所述構圖工藝包括：

采用激光刻蝕方法進行刻蝕；或者，

采用等離子刻蝕方法進行刻蝕；或者，

采用先激光刻蝕后等離子刻蝕的方法進行刻蝕。

3.根據權利要求2所述的配向膜涂布方法，其特征在于，采用激光刻蝕方法進行刻蝕時，采用激光刻蝕裝置對所述整層膜層進行刻蝕，形成配向膜圖案。

4.根據權利要求2所述的配向膜涂布方法，其特征在于，采用等離子刻蝕方法進行刻蝕時，采用等離子刻蝕裝置對所述整層膜層進行刻蝕，形成配向膜圖案。

5.根據權利要求2所述的配向膜涂布方法，其特征在于，采用先激光刻蝕后等離子刻蝕的方法進行刻蝕時，先采用激光刻蝕裝置對所述整層膜層進行軟化，再采用等離子刻蝕裝置對軟化后的所述整層膜層進行轟擊，形成配向膜圖案。

6.一種配向膜制備裝置，用于如以上權利要求1-5任一項所述的配向膜涂布方法，其特征在于，包括涂布裝置、配向裝置和構圖裝置，

所述涂布裝置用于在襯底基板一側整版涂布配向膜溶液并形成整層膜層；

所述配向裝置用于對所述整層膜層進行摩擦配向；

所述構圖裝置用于采用構圖工藝對進行摩擦配向之后的所述整層膜層進行構圖，形成配向膜圖案。

7.根據權利要求6所述的配向膜制備裝置，其特征在于，所述構圖裝置為激光刻蝕裝置，所述激光刻蝕裝置包括激光束發射單元、平面準直鏡、平面反射鏡和平面聚焦鏡：

所述激光束發射單元位于所述平面準直鏡的焦點；所述平面準直鏡位于所述激光束發射單元與所述平面反射鏡之間，且所述平面準直鏡的光軸與所述平面反射鏡的鏡面呈45°夾角，所述平面準直鏡的光軸與所述平面聚焦鏡的光軸垂直；所述平面聚焦鏡的光軸與所述平面折反鏡的鏡面呈45°夾角。

8.根據權利要求6所述的配向膜制備裝置，其特征在于，所述構圖裝置為等離子刻蝕裝置，所述等離子刻蝕裝置具有等離子發生腔，所述等離子發生腔通過管路連接有氧氣源和氬氣源；

所述等離子發生腔內安裝有兩個電極，兩個所述電極分別與高頻電源連接,以便充入所述等離子發生腔內的氬氣和氧氣經兩個所述電極產生的快速變化的電場形成高速等離子流體；

所述等離子發生腔的端部安裝有用于噴出所述等離子流體的噴嘴。

9.根據權利要求7或8所述的配向膜制備裝置，其特征在于，所述構圖裝置還包括用于承載襯底基板的載物臺。

10.根據權利要求9所述的配向膜制備裝置，其特征在于，所述載物臺為固定平臺；或者，

所述載物臺為移動平臺。