[發明專利]蒸發源裝置及蒸鍍機

有效

• 申請號: 201710633446.1
• 申請日: 2017-07-28
• 公開（公告）號: CN107299321B
• 公開（公告）日: 2019-07-26
• 發明（設計）人: 沐俊應
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/12
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304
• 代理人: 孫偉峰

1.一種蒸發源裝置，其特征在于，包括內部真空的第一容器(10)、設于所述第一容器(10)內用于容納并加熱有機材料的第二容器(20)以及設于所述第一容器(10)外的阻擋塊(30)，所述第一容器(10)頂部、所述第二容器(20)頂部分別設有噴嘴(100)和蒸氣孔(200)，所述噴嘴(100)為條形，頂部形成有多行線性排列的噴孔(100a)，所述阻擋塊(30)設于所述噴嘴(100)上方、且位于噴孔(100a)周圍，且所述噴孔(100a)截面為倒置梯形；所述阻擋塊(30)包括相對設置的條狀的第一阻擋塊(31)和第二阻擋塊(32)、設置在所述第一阻擋塊(31)和所述第二阻擋塊(32)之間的第三阻擋塊(33)；所述第一阻擋塊(31)和所述第二阻擋塊(32)的延伸方向平行于每行所述噴孔(100a)的排列方向，且所述第一阻擋塊(31)和所述第二阻擋塊(32)分別位于多行所述噴孔(100a)的兩側；所述第三阻擋塊(33)設于相鄰的兩行所述噴孔(100a)之間，所述第三阻擋塊(33)上分別朝向相鄰的兩行所述噴孔(100a)的面為斜面。

2.根據權利要求1所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述噴孔(100a)外圍還設有對所述噴孔(100a)內壁加熱的環形的輔助加熱源(40)。

3.根據權利要求1所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述噴孔(100a)為圓臺形或棱臺形。

4.根據權利要求1-3任一所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述噴嘴(100)為條形，所述噴孔(100a)為多個，所有的所述噴孔(100a)開設在所述噴嘴(100)上。

5.根據權利要求1-3任一所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述噴孔(100a)為多個，線性分布在所述第一容器(10)的頂部；所述第一阻擋塊(31)和所述第二阻擋塊(32)分別位于線性分布的所述噴孔(100a)的兩側。

6.一種蒸鍍機，其特征在于，包括權利要求1-5任一所述的蒸發源裝置。