[發明專利]片麻巖區圓形硐室光面爆破及巖爆分步解除方法

有效

• 申請號: 201710615467.0
• 申請日: 2017-07-26
• 公開（公告）號: CN107367204B
• 公開（公告）日: 2019-03-05
• 發明（設計）人: 彭鵬;單治鋼;李華
• 申請（專利權）人: 中國電建集團華東勘測設計研究院有限公司
• 主分類號: F42D1/00
• 分類號: F42D1/00;F42D3/04
• 代理公司: 杭州九洲專利事務所有限公司 33101
• 代理人: 韓小燕

1.一種片麻巖區圓形硐室光面爆破及巖爆分步解除方法，其特征在于：

在圓形硐室(1)的開挖掌子面(8)上、掌子面中心附近鉆設若干爆破孔，爆破孔分布于以掌子面中心為原點的圓上及原點上，爆破孔孔深7m，全部深度范圍裝藥；

在圓形硐室(1)的開挖掌子面(8)上靠近其邊界處鉆設有若干光面爆破控制孔(5)，光面爆破控制孔均勻分布于以掌子面中心為原點的圓上，光面爆破控制孔孔深10m，光面爆破控制孔內距離掌子面(8)起0～1m、2～3m、4～5m和6～7m處裝藥，裝藥段長均為1m，爆破強度為0.04kg/T；

所述爆破孔有7個且分為爆破孔中孔(2)、爆破孔中上孔(3)和爆破孔中下孔(4)；

其中爆破孔中孔(2)有3個，包括位于掌子面(8)中心的爆破孔，以及2個與掌子面中心爆破孔位于同一水平線上的爆破孔，爆破孔中孔水平布置；

所述爆破孔中上孔(3)有2個，分布于爆破孔中孔上方，2個爆破孔中上孔位于同一水平線上，爆破孔中上孔指向硐室中心向下傾斜2～3度；

所述爆破孔中下孔(4)有2個，分布于爆破孔中孔下方，2個爆破孔中下孔位于同一水平線上，爆破孔中下孔指向硐室中心向上傾斜2～3度；

所述爆破孔和光面爆破控制孔(5)的起爆順序如下：

首先起爆三個爆破孔中孔(2)，間隔5秒后接著起爆兩個爆破孔中上孔(3)，間隔10秒后起爆兩個爆破孔中下孔(4)，間隔5秒后起爆光面爆破控制孔(5)；所述光面爆破控制孔(5)由內向外逐段進行爆破，間隔0.5秒。

2.根據權利要求1所述的片麻巖區圓形硐室光面爆破及巖爆分步解除方法，其特征在于：所述光面爆破控制孔(5)距離開挖掌子面的邊界0.3m。

3.根據權利要求2所述的片麻巖區圓形硐室光面爆破及巖爆分步解除方法，其特征在于：所述光面爆破控制孔(5)有8個。